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基于浮栅结构的非易失性太赫兹光开关研究

致谢第4-5页
摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第11-24页
    1.1 引言第11-12页
    1.2 浮栅结构存储器简介第12-15页
        1.2.1 浮栅结构存储器的结构及工作原理第13-14页
        1.2.2 基于石墨烯的非易失器件第14-15页
    1.3 课题研究意义和国内外研究现状第15-19页
        1.3.1 浮栅结构光开关研究意义第16页
        1.3.2 国内外研究现状第16-19页
    1.4 本文的主要内容与结构安排第19-21页
    1.5 参考文献第21-24页
第2章 浮栅结构非易失光开关第24-38页
    2.1 浮栅结构光开关第24-28页
        2.1.1 FN隧穿效应第25-26页
        2.1.2 浮栅材料第26页
        2.1.3 高k氧化物第26-28页
    2.2 石墨烯特性第28-30页
    2.3 表面等离子激元波第30-33页
        2.3.1 表面等离子激元波简介第31页
        2.3.2 超透射现象(EOT)物理机制第31-32页
        2.3.3 表面等离子激元的产生第32-33页
    2.4 本章小结第33页
    2.5 参考文献第33-38页
第3章 仿真计算与版图设计第38-52页
    3.1 CST介绍第38-49页
        3.1.1 仿真模板第40页
        3.1.2 仿真步骤第40-43页
        3.1.3 Matlab计算石墨烯光电特性第43-45页
        3.1.4 仿真结果第45-49页
    3.2 版图设计第49-51页
    3.3 本章小结第51页
    3.4 参考文献第51-52页
第4章 制备工艺与测试分析第52-77页
    4.1 制备工艺第52-57页
        4.1.1 石墨烯转移第52-55页
        4.1.2 ALD(原子层沉积)氧化铝第55-56页
        4.1.3 制备金属电极第56-57页
    4.2 器件表征第57-60页
        4.2.1 石墨烯拉曼测试第57-58页
        4.2.2 原子力显微镜(AFM)测试第58-60页
    4.3 器件测试工艺第60-63页
        4.3.1 电学C-V测试第60-61页
        4.3.2 光学透射率测试第61-63页
    4.4 结果分析第63-74页
        4.4.1 电学C-V测试第63-67页
        4.4.2 太赫兹测试结果第67-74页
    4.5 本章小结第74页
    4.6 参考文献第74-77页
第5章 工作总结与展望第77-79页
作者简历及在学期间所取得的科研成果第79页

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