中文摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-30页 |
1.1 拟卤素简介 | 第11-13页 |
1.2 拟卤素的研究意义 | 第13-14页 |
1.3 拟卤素的研究进展 | 第14-22页 |
1.3.1 拟卤素CN的研究进展 | 第14-16页 |
1.3.2 拟卤素OCN的研究进展 | 第16-19页 |
1.3.3 拟卤素N_3的研究进展 | 第19-22页 |
1.4 选题依据 | 第22-23页 |
参考文献 | 第23-30页 |
第二章 实验和理论研究方法 | 第30-36页 |
2.1 低温基质隔离技术 | 第30-31页 |
2.2 实验装置与方法 | 第31-33页 |
2.2.1 低温基质隔离系统与检测系统 | 第31-33页 |
2.2.2 其它仪器及试剂 | 第33页 |
2.3 理论计算 | 第33-34页 |
参考文献 | 第34-36页 |
第三章 拟卤素自由基NSO的产生与表征 | 第36-52页 |
3.1 前言 | 第36-37页 |
3.2 实验部分 | 第37-38页 |
3.2.1 前驱体CF_3S(O)N_3的合成 | 第37页 |
3.2.2 NSO自由基的产生方法与反应 | 第37页 |
3.2.3 计算方法 | 第37-38页 |
3.3 结果与讨论 | 第38-49页 |
3.3.1 前驱体的CF_3S(O)N_3的表征 | 第38-40页 |
3.3.2 CF_3S(O)N_3闪光热分解与光谱分析 | 第40-48页 |
3.3.3 NSO自由基的光化学反应 | 第48-49页 |
3.4 本章小结 | 第49页 |
参考文献 | 第49-52页 |
第四章 HNSO的产生与反应机理研究 | 第52-68页 |
4.1 前言 | 第52-53页 |
4.2 实验部分 | 第53-54页 |
4.2.1 前驱体CH_3OS(O)N_3的合成 | 第53页 |
4.2.2 HNSO的产生方法与反应 | 第53页 |
4.2.3 计算方法 | 第53-54页 |
4.3 结果与讨论 | 第54-65页 |
4.3.1 前驱体CH_3OS(O)N_3的表征 | 第54-57页 |
4.3.2 CH_3OS(O)N和HNSO的产生与红外光谱分析 | 第57-63页 |
4.3.3 理论计算CH_3OS(O)N与HNSO的产生机理 | 第63-65页 |
4.4 本章小结 | 第65页 |
参考文献 | 第65-68页 |
第五章 OCNSO自由基的产生与构像转化动力学研究 | 第68-86页 |
5.1 前言 | 第68-69页 |
5.2 实验部分 | 第69-70页 |
5.2.1 前驱体CF3S(O)NCO的合成 | 第69页 |
5.2.2 OCNSO自由基的产生方法与反应 | 第69页 |
5.2.3 计算方法 | 第69-70页 |
5.3 结果与讨论 | 第70-83页 |
5.3.1 前驱体CF_3S(O)NCO的表征 | 第70-71页 |
5.3.2 OCNSO自由基的产生及红外光谱分析 | 第71-76页 |
5.3.3 OCNSO自由基顺反异构动力学研究 | 第76-80页 |
5.3.4 OCNSO自由基的结构与稳定性分析 | 第80-83页 |
5.4 本章小结 | 第83页 |
参考文献 | 第83-86页 |
第六章 OSCN自由基的产生与光异构化研究 | 第86-102页 |
6.1 前言 | 第86-87页 |
6.2 实验部分 | 第87-88页 |
6.2.1 前驱体CF_3S(O)CN的合成 | 第87页 |
6.2.2 OSCN自由基的产生方法与反应 | 第87-88页 |
6.2.3 计算方法 | 第88页 |
6.3 结果与讨论 | 第88-98页 |
6.3.1 前驱体CF_3S(O)CN的表征 | 第88-89页 |
6.3.2 OSCN自由基的产生及红外光谱分析 | 第89-92页 |
6.3.3 OSCN自由基的光异构化 | 第92-95页 |
6.3.4 OSCN及其异构体的分子和电子结构 | 第95-98页 |
6.4 本章小结 | 第98-99页 |
参考文献 | 第99-102页 |
全文总结 | 第102-104页 |
硕士期间发表的论文 | 第104-106页 |
致谢 | 第106页 |