摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第12-32页 |
1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第12页 |
1.2 氮化硅陶瓷材料概述 | 第12-18页 |
1.2.1 氮化硅晶体结构 | 第14-16页 |
1.2.2 氮化硅α→β相变 | 第16-18页 |
1.3 氮化硅陶瓷材料的液相烧结机制 | 第18-25页 |
1.3.1 晶界相 | 第21-22页 |
1.3.2 β-Si_3N_4晶粒生长机制 | 第22-25页 |
1.4 氮化硅陶瓷材料快速烧结技术 | 第25-30页 |
1.4.1 氮化硅SPS烧结机制 | 第26-29页 |
1.4.2 导电第二相引入及作用机制 | 第29-30页 |
1.5 本文主要研究内容 | 第30-32页 |
第2章 氮化硅基陶瓷复合材料的制备及试验方法 | 第32-41页 |
2.1 氮化硅基复合材料的制备 | 第32-37页 |
2.1.1 实验原料 | 第32-34页 |
2.1.2 制备工艺 | 第34-37页 |
2.2 试验方法 | 第37-41页 |
2.2.1 微观结构与成分分析 | 第37-38页 |
2.2.2 物理性能测试 | 第38-41页 |
第3章 氮化硅热压烧结制备与性能研究 | 第41-62页 |
3.1 引言 | 第41-42页 |
3.2 氮化硅烧结特性及微观组织 | 第42-53页 |
3.2.1 液相形成温度 | 第42-44页 |
3.2.2 相对密度 | 第44-46页 |
3.2.3 晶界相组成 | 第46-48页 |
3.2.4 晶粒生长 | 第48-53页 |
3.3 氮化硅力学性能及热物理性能研究 | 第53-60页 |
3.3.1 弯曲强度与硬度 | 第53-56页 |
3.3.2 断裂韧性 | 第56-59页 |
3.3.3 热扩散系数 | 第59-60页 |
3.4 本章小结 | 第60-62页 |
第4章 SI_3N_4基复合材料的SPS制备与组织演变 | 第62-86页 |
4.1 引言 | 第62-63页 |
4.2 SI_3N_4基复合材料SPS烧结特性 | 第63-68页 |
4.2.1 Cu对Si_3N_4致密化过程的影响 | 第63-65页 |
4.2.2 Mo对Si_3N_4致密化过程的影响 | 第65-68页 |
4.3 第二相对微观结构影响分析 | 第68-78页 |
4.3.1 α→β相变与晶界相 | 第69-74页 |
4.3.2 第二相与Si_3N_4晶粒微观形貌 | 第74-78页 |
4.4 第二相对氮化硅性能的影响 | 第78-84页 |
4.4.1 力学性能 | 第78-83页 |
4.4.2 热扩散系数 | 第83-84页 |
4.5 本章小结 | 第84-86页 |
第5章 SI_3N_4基复合材料的分段SPS制备与性能研究 | 第86-113页 |
5.1 引言 | 第86-87页 |
5.2 微结构影响因素 | 第87-106页 |
5.2.1 二阶烧结 | 第87-95页 |
5.2.2 多阶烧结 | 第95-106页 |
5.3 晶粒生长与热传导性能 | 第106-112页 |
5.3.1 原位生成MoSi_2对晶粒生长的促进机制 | 第106-108页 |
5.3.2 热传导的影响因素 | 第108-112页 |
5.4 本章小结 | 第112-113页 |
结论 | 第113-116页 |
参考文献 | 第116-127页 |
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第127-129页 |
致谢 | 第129-130页 |
个人简历 | 第130页 |