摘要 | 第4-5页 |
abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第10-20页 |
1.1 引言 | 第10-11页 |
1.2 共晶概况 | 第11-13页 |
1.2.1 共晶简介 | 第11-12页 |
1.2.2 共晶含能材料简介 | 第12-13页 |
1.3 共晶含能材料发展现状 | 第13-16页 |
1.3.1 国外共晶炸药发展现状 | 第13-14页 |
1.3.2 国内共晶炸药发展现状 | 第14-16页 |
1.4 CL-20、LLM-116、FOX-7简介 | 第16-18页 |
1.4.1 CL-20简介 | 第16-17页 |
1.4.2 LLM-116简介 | 第17页 |
1.4.3 FOX-7简介 | 第17-18页 |
1.5 选题目的、意义和内容及创新点 | 第18-20页 |
1.5.1 论文选题目的 | 第18页 |
1.5.2 论文研究意义 | 第18页 |
1.5.3 论文研究内容 | 第18-20页 |
2 共晶炸药制备的理论基础 | 第20-28页 |
2.1 共晶含能材料制备原理 | 第20-22页 |
2.1.1 共晶含能材料形成概要 | 第20页 |
2.1.2 共晶含能形成条件 | 第20-21页 |
2.1.3 共晶含能材料分子设计 | 第21-22页 |
2.2 共晶含能材料制备方法 | 第22-26页 |
2.2.1 溶剂挥发法 | 第22-23页 |
2.2.2 研磨法 | 第23页 |
2.2.3 超临界流体法 | 第23-24页 |
2.2.4 喷雾干燥法 | 第24页 |
2.2.5 气相扩散法 | 第24-25页 |
2.2.6 外加磁场环境下的溶剂挥发法 | 第25页 |
2.2.7 溶剂/非溶剂法 | 第25页 |
2.2.8 水热法 | 第25-26页 |
2.3 共晶含能材料表征方法 | 第26-27页 |
2.3.1 扫描电子显微镜测试 | 第26页 |
2.3.2 超景深材料微观结构观测仪测试 | 第26页 |
2.3.3 红外光谱测试 | 第26页 |
2.3.4 差式扫描量热测试 | 第26-27页 |
2.3.5 粉末X射线衍射测试 | 第27页 |
2.4 溶剂的选择 | 第27-28页 |
3 实验部分 | 第28-40页 |
3.1 实验药品 | 第28-29页 |
3.2 实验仪器 | 第29-30页 |
3.3 CL-20、LLM-116、FOX-7、ANTA溶解度测定 | 第30-31页 |
3.4 CL-20/LLM-116共晶体系研究 | 第31-37页 |
3.4.1 实验方案 | 第31-32页 |
3.4.2 溶剂挥发法制备CL-20/LLM-116共晶体工艺的研究 | 第32-34页 |
3.4.3 外加磁场环境下的溶剂挥发法制备CL-20/LLM-116共晶体工艺的研究 | 第34页 |
3.4.4 水热法制备CL-20/LLM-116共晶体工艺的研究 | 第34-35页 |
3.4.5 溶剂/非溶剂法制备CL-20/LLM-116共晶体工艺的研究 | 第35-37页 |
3.5 CL-20/FOX-7共晶体系研究 | 第37-40页 |
3.5.1 实验方案 | 第37-38页 |
3.5.2 溶剂挥发法制备CL-20/FOX-7共晶体工艺的研究 | 第38页 |
3.5.3 气相扩散法制备CL-20/FOX-7共晶体系的工艺研究 | 第38-40页 |
4 实验结果性能表征及分析 | 第40-55页 |
4.1 CL-20/LLM-116体系性能表征及分析 | 第40-48页 |
4.1.2 溶剂挥发法制备CL-20/LLM-116共晶体的性能表征及分析 | 第40-45页 |
4.1.3 外加磁场环境中溶剂挥发法制备CL-20/LLM-116共晶体的性能表征及分析 | 第45页 |
4.1.4 水热法制备CL-20/LLM-116共晶体的性能表征及分析 | 第45-46页 |
4.1.5 溶剂/非溶剂法制备CL-20/LLM-116共晶体的性能表征及分析 | 第46-48页 |
4.2 CL-20/FOX-7体系性能表征及分析 | 第48-55页 |
4.2.1 溶剂挥发法法制备CL-20/FOX-7共晶体的性能表征及分析 | 第48-54页 |
4.2.2 气相扩散法制备CL-20/FOX-7共晶体的性能表征及分析 | 第54-55页 |
5 结论与展望 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-61页 |
致谢 | 第61-62页 |
攻读硕士学位期间发表的论文及所取得的研究成果 | 第62-63页 |