摘要 | 第2-3页 |
Abstract | 第3页 |
引言 | 第6-8页 |
第一章 文献综述 | 第8-22页 |
1.1 单分散二氧化硅的制备和应用 | 第8-10页 |
1.1.1 单分散SiO_2微球的成核和生长机理 | 第8-9页 |
1.1.2 单分散SiO_2微球的制备方法 | 第9-10页 |
1.1.3 单分散SiO_2微球的应用 | 第10页 |
1.2 单分散SiO_2微球的改性 | 第10-14页 |
1.2.1 物理改性 | 第10-11页 |
1.2.2 化学改性 | 第11-13页 |
1.2.3 表面改性的作用 | 第13-14页 |
1.3 二氧化硅微球在HPLC方面的应用 | 第14-17页 |
1.3.1 不同结构硅胶基质填料的应用 | 第14-16页 |
1.3.2 C_(18)修饰SiO_2微球在HPLC的应用 | 第16-17页 |
1.4 分离纯化富勒烯的主要方法 | 第17-20页 |
1.4.1 经典柱层析法 | 第17-18页 |
1.4.2 高效液相色谱法 | 第18-20页 |
1.5 本课题的研究目标研究设想和意义 | 第20-22页 |
1.5.1 研究目标 | 第20页 |
1.5.2 研究步骤 | 第20-21页 |
1.5.3 本论文解决的关键问题 | 第21-22页 |
第二章 微米级SiO_2微球的制备 | 第22-30页 |
2.1 引言 | 第22页 |
2.2 实验药品和主要仪器设备 | 第22-23页 |
2.3 实验过程 | 第23页 |
2.4 实验结果与讨论 | 第23-29页 |
2.4.1 氨水浓度对微球粒径和单分散性的影响 | 第24-25页 |
2.4.2 反应温度对微球粒径和单分散性的影响 | 第25-26页 |
2.4.3 硅源滴加速度对微球粒径和单分散性的影响 | 第26-27页 |
2.4.4 硅源浓度对微球粒径和单分散性的影响 | 第27-29页 |
2.5 本章小结 | 第29-30页 |
第三章 二氧化硅微球的修饰的研究 | 第30-35页 |
3.1 引言 | 第30页 |
3.2 实验过程 | 第30-32页 |
3.2.1 仪器与试剂 | 第30-31页 |
3.2.2 硅烷化反应 | 第31页 |
3.2.3 封端 | 第31-32页 |
3.2.4 键合硅胶的红外表征 | 第32页 |
3.2.5 热重分析(TGA) | 第32页 |
3.3 结果和讨论 | 第32-34页 |
3.4 本章小结 | 第34-35页 |
第四章 二氧化硅在高效液相色谱中的应用 | 第35-41页 |
4.1 引言 | 第35-36页 |
4.2 实验过程 | 第36-37页 |
4.2.1 仪器与试剂 | 第36页 |
4.2.2 实验过程 | 第36-37页 |
4.3 实验结果与讨论 | 第37-40页 |
4.3.1 流动相体积比对分离性能的影响 | 第37页 |
4.3.2 不同填料色谱柱分离性能对比 | 第37-39页 |
4.3.3 不同填料色谱柱柱压降与流速的关系 | 第39-40页 |
4.4 本章小结 | 第40-41页 |
第五章 结论 | 第41-42页 |
参考文献 | 第42-50页 |
攻读学位期间的研究成果 | 第50-51页 |
致谢 | 第51-52页 |