| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-27页 |
| 1.1 RCS概念 | 第10-14页 |
| 1.2 RCS测试及方法 | 第14-20页 |
| 1.2.1 RCS测试原理及意义 | 第14-17页 |
| 1.2.2 RCS测试远场条件 | 第17-18页 |
| 1.2.3 RCS测试方法 | 第18-20页 |
| 1.3 RCS测试场 | 第20-23页 |
| 1.3.1 室内测试场 | 第21页 |
| 1.3.2 室外测试场 | 第21-22页 |
| 1.3.3 室内、外测试场性能对比 | 第22页 |
| 1.3.4 室外测试场分类 | 第22-23页 |
| 1.4 国内外静态测试外场现状 | 第23-25页 |
| 1.5 本论文的研究目标及内容安排 | 第25-27页 |
| 第二章 地坪场理论及研究基础 | 第27-35页 |
| 2.1 地坪场总体介绍 | 第27-28页 |
| 2.2 地坪场增益原理及约束条件 | 第28-30页 |
| 2.3 地坪场RCS测试中影响因素分析 | 第30-33页 |
| 2.4 地坪场中存在的关键电磁问题 | 第33-34页 |
| 2.5 本章小结 | 第34-35页 |
| 第三章 地坪场频率特性及目标窗.电磁照射分析 | 第35-63页 |
| 3.1 地坪场频率特性 | 第35-36页 |
| 3.2 地坪场目标窗.照射场相位非均匀性分析 | 第36-40页 |
| 3.3 不同雷达天线照射下目标窗.电磁场幅度均匀性分析 | 第40-46页 |
| 3.3.1 均匀照射下目标窗.电磁场分布情况 | 第40-42页 |
| 3.3.2 非均匀照射下目标窗.电磁场分布分析 | 第42-46页 |
| 3.4 地反射面对目标窗.幅度分布均匀性影响分析 | 第46-54页 |
| 3.4.1 地面介电常数对地面反射系数值的影响 | 第46-49页 |
| 3.4.2 地面不平整性对地面反射系数值影响 | 第49-50页 |
| 3.4.3 地反射面对目标窗.电磁场幅度分布影响 | 第50-54页 |
| 3.5 目标窗.场分布均匀性测试 | 第54-62页 |
| 3.5.1 目标窗.电磁均匀性测试方法设计 | 第55-56页 |
| 3.5.2 C波段检波器的设计与测试 | 第56-60页 |
| 3.5.3 地面反射系数实测 | 第60-62页 |
| 3.6 本章小节 | 第62-63页 |
| 第四章 非平面波照射对目标RCS值影响分析 | 第63-72页 |
| 4.1 RCS近场仿真模式 | 第63-65页 |
| 4.2 非平面波照射下目标RCS值 | 第65-71页 |
| 4.3 本章小节 | 第71-72页 |
| 第五章 目标支架散射特性要求及结构选择 | 第72-92页 |
| 5.1 目标支架散射特性要求 | 第72-73页 |
| 5.2 简单几何体RCS矩量法分析 | 第73-84页 |
| 5.2.1 二维金属圆柱截面RCS分析 | 第73-77页 |
| 5.2.2 其他简单二维金属柱截面RCS分析 | 第77-81页 |
| 5.2.3 目标支架截面选择分析 | 第81-84页 |
| 5.3 低散射金属支架分析设计 | 第84-91页 |
| 5.3.1 三维金属支架RCS影响因素分析 | 第84-88页 |
| 5.3.2 金属支架与目标耦合问题分析研究 | 第88-91页 |
| 5.4 本章小节 | 第91-92页 |
| 第六章 地坪场标准体与RCS测试流程设计 | 第92-104页 |
| 6.1 地坪场标准体分析设计 | 第92-98页 |
| 6.2 地坪场RCS测试问题 | 第98-103页 |
| 6.2.1 环境电平监测问题 | 第98-100页 |
| 6.2.2 RCS测试流程设计 | 第100-103页 |
| 6.3 本章小节 | 第103-104页 |
| 第七章 总结 | 第104-105页 |
| 致谢 | 第105-106页 |
| 参考文献 | 第106-108页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第108-109页 |