| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第一章 前言 | 第10-32页 |
| 1.1 仿生纳米孔道的概述 | 第10-17页 |
| 1.1.1 生命体中的离子通道 | 第10-11页 |
| 1.1.2 仿生智能纳米材料 | 第11-13页 |
| 1.1.3 仿生离子通道的出现 | 第13-14页 |
| 1.1.4 纳米孔道的分类 | 第14-17页 |
| 1.2 纳米孔道的制备及表征 | 第17-22页 |
| 1.2.1 纳米孔道的制备 | 第17-21页 |
| 1.2.2 纳米孔道的表征方法 | 第21-22页 |
| 1.3 纳米孔道的表面修饰 | 第22-27页 |
| 1.3.1 纳米孔道的对称修饰 | 第22-24页 |
| 1.3.2 纳米孔道的非对称修饰 | 第24-27页 |
| 1.4 纳米孔道的响应性研究 | 第27-30页 |
| 1.4.1 pH 响应的纳米孔道 | 第27-28页 |
| 1.4.2 温度响应的纳米孔道 | 第28-29页 |
| 1.4.3 光响应单纳米孔道 | 第29页 |
| 1.4.4 离子响应的纳米孔道 | 第29-30页 |
| 1.4.5 其他响应的纳米孔道 | 第30页 |
| 1.5 本文立题思想 | 第30-32页 |
| 第二章 基于组氨酸修饰的纳米孔道用于离子检测的研究 | 第32-47页 |
| 2.1 实验样品和仪器 | 第33-35页 |
| 2.2 实验操作 | 第35-37页 |
| 2.2.1 Ag/AgCl 电极的制备 | 第35页 |
| 2.2.2 多孔纳米孔道的制备和表征 | 第35-36页 |
| 2.2.3 纳米孔道上氨基酸的修饰 | 第36页 |
| 2.2.4 金属离子的响应 | 第36-37页 |
| 2.2.5 纳米孔道内金属离子的去除 | 第37页 |
| 2.2.6 孔道内变化的伏安特性检测 | 第37页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第37-46页 |
| 2.3.1 多孔纳米孔道的 SEM 表征 | 第37-38页 |
| 2.3.2 纳米孔道的浸润性变化 | 第38页 |
| 2.3.3 氨基酸修饰的纳米孔道的伏安特性曲线变化机理 | 第38-40页 |
| 2.3.4 氨基酸修饰后的 XPS 检测 | 第40页 |
| 2.3.5 纳米孔道的离子变化伏安特性曲线 | 第40-43页 |
| 2.3.6 金属离子的去除反应 | 第43-46页 |
| 2.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第三章 Au 修饰的仿生纳米多孔通道的光响应研究 | 第47-54页 |
| 3.1 实验部分 | 第47-48页 |
| 3.1.1 实验的样品和试剂 | 第47-48页 |
| 3.1.2 实验仪器 | 第48页 |
| 3.2 实验操作 | 第48-50页 |
| 3.2.1 多孔纳米孔道的制备和表征 | 第48-49页 |
| 3.2.2 Au 在多孔纳米孔道的溅射 | 第49页 |
| 3.2.3 溅射前后的接触角的表征 | 第49页 |
| 3.2.4 光照 Ag 溅射后的多孔膜 | 第49页 |
| 3.2.5 纳米孔道的离子变化伏安特性曲线检测 | 第49-50页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第50-53页 |
| 3.3.1 Au 溅射前后的多孔变化的表征 | 第50页 |
| 3.3.2 Au 溅射时间对多孔的伏安特性曲线变化 | 第50-51页 |
| 3.3.3 光照 Au 溅射的多孔的伏安特性曲线 | 第51-52页 |
| 3.3.4 光照开关特性 | 第52-53页 |
| 3.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第四章 结论 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
