摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-9页 |
第1章 引言 | 第13-29页 |
1.1 研究背景 | 第13-15页 |
1.2 纳米氢氧化铜的性质和基本性能 | 第15-17页 |
1.2.1 磁学性能 | 第15页 |
1.2.2 电学性能 | 第15-16页 |
1.2.3 化学和催化性能 | 第16页 |
1.2.4 抗菌性能 | 第16-17页 |
1.3 纳米氢氧化铜的制备方法 | 第17-22页 |
1.3.1 湿化学法 | 第18页 |
1.3.2 前驱体法 | 第18-19页 |
1.3.3 模板法 | 第19-20页 |
1.3.4 铜箔氧化法 | 第20-21页 |
1.3.5 其他方法 | 第21-22页 |
1.4 杀菌剂的分类 | 第22-24页 |
1.4.1 天然杀菌剂 | 第22-23页 |
1.4.2 有机杀菌剂 | 第23页 |
1.4.3 无机杀菌剂 | 第23-24页 |
1.5 氢氧化铜在杀菌剂上的应用 | 第24-26页 |
1.6 课题的研究思路与内容 | 第26-29页 |
1.6.1 研究思路 | 第26页 |
1.6.2 研究内容 | 第26-29页 |
第2章 直接沉淀法和前驱体法制备氢氧化铜的研究 | 第29-41页 |
2.1 实验部分 | 第29-31页 |
2.1.1 实验药品与仪器 | 第29页 |
2.1.2 实验测试与表征 | 第29-30页 |
2.1.3 实验方法 | 第30-31页 |
2.2 直接沉淀法制备氢氧化铜 | 第31-33页 |
2.3 前驱体法制备氢氧化铜 | 第33-39页 |
2.3.1 氢氧化钠法所得前驱体制备氢氧化铜 | 第33-37页 |
2.3.2 尿素法所得前驱体制备氢氧化铜 | 第37-39页 |
2.4 本章小结 | 第39-41页 |
第3章 配位沉淀法制备氢氧化铜的研究 | 第41-73页 |
3.1 实验部分 | 第41-43页 |
3.1.1 实验药品与仪器 | 第41页 |
3.1.2 实验测试与表征 | 第41-42页 |
3.1.3 实验方法 | 第42-43页 |
3.2 配位沉淀法制备氢氧化铜 | 第43-59页 |
3.2.1 硫酸铜和氨水浓度对氢氧化铜物相的影响 | 第43-47页 |
3.2.2 硫酸铜和氨水浓度对氢氧化铜形貌的影响 | 第47-55页 |
3.2.3 硫酸铜和氨水浓度对氢氧化铜比表面积的影响 | 第55-57页 |
3.2.4 氨水浓度对氢氧化铜粒度分布的影响 | 第57-58页 |
3.2.5 氢氧化铜形貌的热重分析 | 第58-59页 |
3.3 表面活性剂-配位沉淀法制备氢氧化铜 | 第59-72页 |
3.3.1 CTAB对氢氧化铜制备过程的影响 | 第59-62页 |
3.3.2 SDS对氢氧化铜制备过程的影响 | 第62-64页 |
3.3.3 LAS对氢氧化铜制备过程的影响 | 第64-67页 |
3.3.4 PEG 6000对氢氧化铜制备过程的影响 | 第67-69页 |
3.3.5 PVP 40000对氢氧化铜制备过程的影响 | 第69-72页 |
3.4 本章小结 | 第72-73页 |
第4章 纳米氢氧化铜水分散粒剂的制备及性能研究 | 第73-83页 |
4.1 水分散粒剂的概述 | 第73-75页 |
4.1.1 水分散粒剂的定义 | 第73页 |
4.1.2 水分散粒剂的优势 | 第73页 |
4.1.3 水分散粒剂的种类 | 第73-74页 |
4.1.4 水分散粒剂的基本生产过程 | 第74页 |
4.1.5 水分散粒剂助剂及其作用 | 第74-75页 |
4.2 纳米氢氧化铜水分散粒剂的制备 | 第75-78页 |
4.2.1 实验药品与仪器 | 第75-76页 |
4.2.2 实验测试与表征 | 第76页 |
4.2.3 实验方法 | 第76-78页 |
4.3 结果与讨论 | 第78-81页 |
4.3.1 SEM与比表面积分析 | 第78-79页 |
4.3.2 粒度分析 | 第79-80页 |
4.3.3 悬浮率分析 | 第80-81页 |
4.3.4 pH分析 | 第81页 |
4.4 本章小结 | 第81-83页 |
第5章 总结与展望 | 第83-85页 |
5.1 总结 | 第83-84页 |
5.2 展望 | 第84-85页 |
参考文献 | 第85-93页 |
致谢 | 第93-95页 |
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果 | 第95页 |