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杀菌剂用纳米氢氧化铜的制备及应用性能研究

摘要第5-7页
Abstract第7-9页
第1章 引言第13-29页
    1.1 研究背景第13-15页
    1.2 纳米氢氧化铜的性质和基本性能第15-17页
        1.2.1 磁学性能第15页
        1.2.2 电学性能第15-16页
        1.2.3 化学和催化性能第16页
        1.2.4 抗菌性能第16-17页
    1.3 纳米氢氧化铜的制备方法第17-22页
        1.3.1 湿化学法第18页
        1.3.2 前驱体法第18-19页
        1.3.3 模板法第19-20页
        1.3.4 铜箔氧化法第20-21页
        1.3.5 其他方法第21-22页
    1.4 杀菌剂的分类第22-24页
        1.4.1 天然杀菌剂第22-23页
        1.4.2 有机杀菌剂第23页
        1.4.3 无机杀菌剂第23-24页
    1.5 氢氧化铜在杀菌剂上的应用第24-26页
    1.6 课题的研究思路与内容第26-29页
        1.6.1 研究思路第26页
        1.6.2 研究内容第26-29页
第2章 直接沉淀法和前驱体法制备氢氧化铜的研究第29-41页
    2.1 实验部分第29-31页
        2.1.1 实验药品与仪器第29页
        2.1.2 实验测试与表征第29-30页
        2.1.3 实验方法第30-31页
    2.2 直接沉淀法制备氢氧化铜第31-33页
    2.3 前驱体法制备氢氧化铜第33-39页
        2.3.1 氢氧化钠法所得前驱体制备氢氧化铜第33-37页
        2.3.2 尿素法所得前驱体制备氢氧化铜第37-39页
    2.4 本章小结第39-41页
第3章 配位沉淀法制备氢氧化铜的研究第41-73页
    3.1 实验部分第41-43页
        3.1.1 实验药品与仪器第41页
        3.1.2 实验测试与表征第41-42页
        3.1.3 实验方法第42-43页
    3.2 配位沉淀法制备氢氧化铜第43-59页
        3.2.1 硫酸铜和氨水浓度对氢氧化铜物相的影响第43-47页
        3.2.2 硫酸铜和氨水浓度对氢氧化铜形貌的影响第47-55页
        3.2.3 硫酸铜和氨水浓度对氢氧化铜比表面积的影响第55-57页
        3.2.4 氨水浓度对氢氧化铜粒度分布的影响第57-58页
        3.2.5 氢氧化铜形貌的热重分析第58-59页
    3.3 表面活性剂-配位沉淀法制备氢氧化铜第59-72页
        3.3.1 CTAB对氢氧化铜制备过程的影响第59-62页
        3.3.2 SDS对氢氧化铜制备过程的影响第62-64页
        3.3.3 LAS对氢氧化铜制备过程的影响第64-67页
        3.3.4 PEG 6000对氢氧化铜制备过程的影响第67-69页
        3.3.5 PVP 40000对氢氧化铜制备过程的影响第69-72页
    3.4 本章小结第72-73页
第4章 纳米氢氧化铜水分散粒剂的制备及性能研究第73-83页
    4.1 水分散粒剂的概述第73-75页
        4.1.1 水分散粒剂的定义第73页
        4.1.2 水分散粒剂的优势第73页
        4.1.3 水分散粒剂的种类第73-74页
        4.1.4 水分散粒剂的基本生产过程第74页
        4.1.5 水分散粒剂助剂及其作用第74-75页
    4.2 纳米氢氧化铜水分散粒剂的制备第75-78页
        4.2.1 实验药品与仪器第75-76页
        4.2.2 实验测试与表征第76页
        4.2.3 实验方法第76-78页
    4.3 结果与讨论第78-81页
        4.3.1 SEM与比表面积分析第78-79页
        4.3.2 粒度分析第79-80页
        4.3.3 悬浮率分析第80-81页
        4.3.4 pH分析第81页
    4.4 本章小结第81-83页
第5章 总结与展望第83-85页
    5.1 总结第83-84页
    5.2 展望第84-85页
参考文献第85-93页
致谢第93-95页
作者简历及攻读学位期间发表的学术论文与研究成果第95页

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