| 摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 第一章 引言 | 第8-21页 |
| 1.1 金属表面疏水性研究的意义 | 第8页 |
| 1.2 疏水性的理论基础 | 第8-12页 |
| 1.3 金属表面疏水性的实现途径 | 第12-13页 |
| 1.4 金属超疏水表面的制备技术 | 第13-19页 |
| 1.4.1 化学刻蚀法 | 第13-14页 |
| 1.4.2 模板法 | 第14页 |
| 1.4.3 复合涂层法 | 第14-15页 |
| 1.4.4 电化学沉积法 | 第15-16页 |
| 1.4.5 可控氧化法 | 第16-17页 |
| 1.4.6 阳极氧化法 | 第17页 |
| 1.4.7 一步浸泡法 | 第17-18页 |
| 1.4.8 分子自组装法 | 第18-19页 |
| 1.4.9 其它方法 | 第19页 |
| 1.5 金属表面超疏水性的应用 | 第19页 |
| 1.6 展望 | 第19-20页 |
| 1.7 课题的提出及研究思路 | 第20-21页 |
| 第二章 实验方法 | 第21-27页 |
| 2.1 实验内容 | 第21页 |
| 2.2 实验材料及样品准备 | 第21-22页 |
| 2.3 理论模型及实验设备 | 第22-23页 |
| 2.4 接触角的测量 | 第23-24页 |
| 2.5 疏水表面的表面形貌及成分分析 | 第24页 |
| 2.6 疏水表面的浸泡腐蚀实验 | 第24-25页 |
| 2.7 疏水表面的电化学腐蚀实验 | 第25-26页 |
| 2.8 实验注意事项 | 第26-27页 |
| 第三章 粗糙表面疏水机理及理论模型表征 | 第27-34页 |
| 3.1 概述 | 第27-28页 |
| 3.2 有限液-固界面引发疏水性 | 第28-29页 |
| 3.3 表面微结构对润湿性的影响 | 第29-32页 |
| 3.3.1 一重粗糙结构 | 第29-30页 |
| 3.3.2 二重粗糙结构 | 第30-32页 |
| 3.4 粗糙表面的滚动特性 | 第32-33页 |
| 3.5 微-纳粗糙表面的真实润湿状态 | 第33页 |
| 3.6 本章小结 | 第33-34页 |
| 第四章 H62黄铜疏水表面的制备及疏水机理研究 | 第34-44页 |
| 4.1 概述 | 第34页 |
| 4.2 实验部分 | 第34-35页 |
| 4.2.1 化学刻蚀法 | 第34-35页 |
| 4.2.2 试样表征方法 | 第35页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第35-39页 |
| 4.3.1 刻蚀时间对润湿性的影响 | 第35-37页 |
| 4.3.2 刻蚀时间对黄铜表面微细结构的影响 | 第37-39页 |
| 4.4 黄铜表面微细结构的形成对疏水性的影响 | 第39-43页 |
| 4.4.1 Wenzel理论 | 第39-41页 |
| 4.4.2 Cassie理论 | 第41-42页 |
| 4.4.3 有限液-固界面理论 | 第42-43页 |
| 4.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 第五章 化学刻蚀法疏水化处理的H62黄铜表面耐蚀性研究 | 第44-54页 |
| 5.1 概述 | 第44页 |
| 5.2 实验部分 | 第44-45页 |
| 5.3 实验结果与分析 | 第45-53页 |
| 5.3.1 刻蚀时间与接触角 | 第45-47页 |
| 5.3.2 浸泡腐蚀性能 | 第47-50页 |
| 5.3.3 电化学腐蚀性能 | 第50-53页 |
| 5.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 第六章 溶液生长法制备H62黄铜疏水表面及表面耐蚀性研究 | 第54-64页 |
| 6.1 概述 | 第54-55页 |
| 6.2 实验部分 | 第55页 |
| 6.3 实验结果与分析 | 第55-63页 |
| 6.3.1 自生长时间与接触角的关系 | 第55-56页 |
| 6.3.2 溶液浓度与接触角的关系 | 第56-59页 |
| 6.3.3 自生长疏水涂层的成分分析 | 第59-60页 |
| 6.3.4 自生长疏水涂层的浸泡腐蚀性能 | 第60-61页 |
| 6.3.5 自生长疏水涂层的电化学腐蚀性能 | 第61-63页 |
| 6.4 本章小结 | 第63-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
| 个人简历 | 第73-74页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第74页 |