| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-15页 |
| 1.1 课题背景及研究目的 | 第8页 |
| 1.2 制备超疏水性表面的方法 | 第8-12页 |
| 1.2.1 电化学沉积法 | 第8-9页 |
| 1.2.2 电化学腐蚀法 | 第9-11页 |
| 1.2.3 溶胶-凝胶法 | 第11-12页 |
| 1.2.4 等离子体处理法 | 第12页 |
| 1.2.5 刻蚀法 | 第12页 |
| 1.3 超疏制备技术中存在的问题 | 第12-13页 |
| 1.4 本文的主要研究内容 | 第13-15页 |
| 第2章 超疏表面理论基础 | 第15-23页 |
| 2.1 荷叶效应 | 第15-16页 |
| 2.2 固体表面浸润性 | 第16页 |
| 2.3 接触角-静态表征 | 第16-20页 |
| 2.3.1 接触角的概念 | 第16-18页 |
| 2.3.2 水滴与粗糙结构表面接触的 Wenzel 方程 | 第18-19页 |
| 2.3.3 水滴与粗糙结构表面接触的 Cassie 方程 | 第19-20页 |
| 2.4 固体表面能 | 第20-22页 |
| 2.4.1 固体的表面能的含义 | 第20页 |
| 2.4.2 接触角法计算固体的表面能 | 第20-21页 |
| 2.4.3 固体表面能与接触角之间的关系 | 第21-22页 |
| 2.5 本章小结 | 第22-23页 |
| 第3章 化学腐蚀法制备超疏水性表面 | 第23-40页 |
| 3.1 引言 | 第23-24页 |
| 3.2 实验部分 | 第24-31页 |
| 3.2.1 试剂和仪器 | 第24页 |
| 3.2.2 化学刻蚀实验 | 第24-25页 |
| 3.2.3 磁控溅射 | 第25-28页 |
| 3.2.4 表面氟化 | 第28-31页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第31-38页 |
| 3.3.1 化学刻蚀结果及分析 | 第31-34页 |
| 3.3.2 磁控溅射结果 | 第34-36页 |
| 3.3.3 表面氟化结果 | 第36-38页 |
| 3.4 本章小结 | 第38-40页 |
| 第4章 模板法制备超疏水性表面 | 第40-44页 |
| 4.1 引言 | 第40页 |
| 4.2 实验部分 | 第40-42页 |
| 4.2.1 试剂仪器 | 第40页 |
| 4.2.2 模板法制备超疏水表面 | 第40-42页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第42-43页 |
| 4.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 第5章 电化学沉积法制备超疏水性表面 | 第44-51页 |
| 5.1 引言 | 第44-45页 |
| 5.2 实验部分 | 第45-47页 |
| 5.2.1 试剂仪器 | 第45页 |
| 5.2.2 电化学沉积法制备超疏水表面 | 第45-47页 |
| 5.3 结果与讨论 | 第47-50页 |
| 5.3.1 电化学沉积法制备超疏水性测试 | 第47-48页 |
| 5.3.2 超疏效果分析 | 第48-49页 |
| 5.3.3 十四铜酸微簇结构的形成 | 第49-50页 |
| 5.4 本章小结 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第57-59页 |
| 致谢 | 第59页 |