| 摘要 | 第6-8页 |
| Abstract | 第8-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-17页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第13-14页 |
| 1.2 研究内容 | 第14-15页 |
| 1.2.1 改性分子筛吸附去除低浓度AsH_3 | 第14页 |
| 1.2.2 杂质气体对改性分子筛吸附去除低浓度AsH_3性能的影响 | 第14-15页 |
| 1.2.3 吸附剂再生 | 第15页 |
| 1.3 研究创新点 | 第15-17页 |
| 第二章 文献综述 | 第17-27页 |
| 2.1 AsH_3的产生、危害及性质 | 第17-19页 |
| 2.1.1 AsH_3的来源 | 第17页 |
| 2.1.2 AsH_3的危害 | 第17-18页 |
| 2.1.3 AsH_3的特征及性质 | 第18-19页 |
| 2.2 矿热冶炼废气的净化技术 | 第19-21页 |
| 2.2.1 矿热冶炼废气的除尘技术 | 第19-20页 |
| 2.2.2 矿热冶炼废气中AsH_3的净化技术 | 第20页 |
| 2.2.3 矿热冶炼废气的利用 | 第20-21页 |
| 2.3 吸附基础理论概述 | 第21-25页 |
| 2.3.1 吸附的定义及分类 | 第21-22页 |
| 2.3.2 气固相吸附过程 | 第22-23页 |
| 2.3.3 吸附剂的种类 | 第23-24页 |
| 2.3.4 活性成分的种类 | 第24-25页 |
| 2.4 本章小结 | 第25-27页 |
| 第三章 实验材料与方法 | 第27-35页 |
| 3.1 实验药品与仪器 | 第27-29页 |
| 3.1.1 实验药品 | 第27-28页 |
| 3.1.2 实验仪器与设备 | 第28-29页 |
| 3.2 实验方法 | 第29-32页 |
| 3.2.1 实验研究技术路线 | 第29-30页 |
| 3.2.2 实验装置与流程 | 第30-31页 |
| 3.2.3 AsH_3、H_2S、PH_3、COS和CS_2浓度的测定 | 第31页 |
| 3.2.4 去除效率的计算 | 第31-32页 |
| 3.3 吸附剂的再生 | 第32页 |
| 3.3.1 水蒸气冲洗再生法的原理及步骤 | 第32页 |
| 3.3.2 N_2加热吹扫再生的原理及步骤 | 第32页 |
| 3.4 吸附剂的制备 | 第32-33页 |
| 3.5 吸附剂的表征 | 第33-34页 |
| 3.5.1 N_2吸脱附测试(N_2-BET) | 第33页 |
| 3.5.2 扫描电镜(SEM)和能量射散(EDS) | 第33页 |
| 3.5.3 X射线衍射(XRD) | 第33-34页 |
| 3.5.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第34页 |
| 3.5.5 傅里叶红外(FT-IR) | 第34页 |
| 3.5.6 程序升温脱附(TPD) | 第34页 |
| 3.6 本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 改性分子筛脱除AsH_3的研究 | 第35-53页 |
| 4.1 吸附剂的筛选 | 第35-38页 |
| 4.1.1 载体对AsH_3吸附的影响 | 第35-36页 |
| 4.1.2 活性成分对AsH_3吸附的影响 | 第36-37页 |
| 4.1.3 Cu(NO_3)_2的浸渍浓度对AsH_3吸附效果的影响 | 第37页 |
| 4.1.4 焙烧温度对AsH_3吸附效果的影响 | 第37-38页 |
| 4.2 反应条件对AsH_3吸附效果的影响 | 第38-41页 |
| 4.2.1 反应温度对AsH_3吸附效果的影响 | 第38-39页 |
| 4.2.2 氧体积分数对AsH_3吸附效果的影响 | 第39-40页 |
| 4.2.3 空速对AsH3吸附效果的影响 | 第40-41页 |
| 4.3 样品表征 | 第41-51页 |
| 4.3.1 N_2吸附等温线与孔径分布(N_2-BET) | 第41-43页 |
| 4.3.2 扫描电镜与能量散射分析(SEM-EDS) | 第43-45页 |
| 4.3.3 X射线衍射分析(XRD) | 第45-46页 |
| 4.3.4 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第46-49页 |
| 4.3.5 傅里叶红外分析(FT-IR) | 第49-50页 |
| 4.3.6 程序升温脱附(TPD) | 第50-51页 |
| 4.4 本章小结 | 第51-53页 |
| 第五章 杂质气体对AsH_3脱除的影响研究 | 第53-61页 |
| 5.1 H_2S对AsH_3脱除的影响 | 第53-54页 |
| 5.2 PH_3对AsH_3脱除的影响 | 第54-56页 |
| 5.3 COS对AsH_3脱除的影响 | 第56-58页 |
| 5.4 CS_2对AsH_3脱除的影响 | 第58-59页 |
| 5.5 AsH_3、H_2S、PH_3、COS、CS_2的竞争吸附 | 第59-60页 |
| 5.6 本章小结 | 第60-61页 |
| 第六章 吸附剂再生研究 | 第61-65页 |
| 6.1 水蒸气冲洗再生 | 第61-62页 |
| 6.2 N_2加热吹扫再生 | 第62-63页 |
| 6.3 本章小结 | 第63-65页 |
| 第七章 结论与建议 | 第65-67页 |
| 7.1 结论 | 第65-66页 |
| 7.1.1 改性分子筛吸附去除AsH_3 | 第65-66页 |
| 7.1.2 杂质气体对AsH_3吸附脱除的影响 | 第66页 |
| 7.1.3 吸附剂再生 | 第66页 |
| 7.2 后续研究展望和建议 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67-69页 |
| 参考文献 | 第69-77页 |
| 附录A 硕士研究生期间研究成果 | 第77-79页 |
| 附录B 硕士研究生期间参与科研项目 | 第79页 |
