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回旋管电子光学系统设计与优化

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第一章 绪论第10-17页
    1.1 高功率毫米波技术简介第10-11页
    1.2 电子回旋脉塞的发展与机理第11-13页
    1.3 电子光学理论的发展第13-14页
    1.4 电子枪的发展简介第14-15页
    1.5 收集极对电子注的回收第15页
    1.6 本文的主要工作第15-17页
第二章 强流电子光学理论分析第17-31页
    2.1 电子光学系统的基本方程第17-25页
        2.1.1 电子光学系统中的静电场分析第20-21页
        2.1.2 电子光学系统中的静磁场分析第21-23页
        2.1.3 电子运动方程第23-24页
        2.1.4 电子轨迹方程第24-25页
    2.2 回旋管的电子光学理论第25-28页
        2.2.1 通电线圈磁场的模拟第25-27页
        2.2.2 绝热压缩作用第27-28页
    2.3 电子光学系统CAD软件分析第28-29页
    2.4 本章小结第29-31页
第三章 94GHz回旋管电子光学系统设计第31-49页
    3.1 电子枪的初始设计第32-34页
    3.2 电子枪磁场参数和结构参数的优化第34-37页
        3.2.1 磁场参数第34-36页
        3.2.2 电子枪几何结构的确定第36-37页
    3.3 优化结果分析第37-44页
        3.3.1 电子注轨迹的优化结果第37-40页
        3.3.2 电子枪区及过渡区的能量转换第40-43页
        3.3.3 收集极能量转换第43-44页
    3.4 收集极散焦理论分析和优化第44-48页
        3.4.1 收集极散焦的理论分析第44-45页
        3.4.2 收集极散焦的优化第45-48页
    3.5 本章小结第48-49页
第四章 D波段电子光学系统的设计与优化第49-59页
    4.1 单阳极磁控注入电子枪的设计与优化第49-50页
    4.2 D波段收集极的优化结果第50-51页
    4.3 电压、电流和磁场对磁控注入电子枪性能的影响第51-56页
        4.3.1 阳极电压对电子注的影响第51-52页
        4.3.2 发射电流对电子注的影响第52-54页
        4.3.3 阴极磁场对电子注的影响。第54-56页
    4.4 电子枪的结构参数对电子注性能的影响第56-58页
        4.4.1 阴极半径对电子注性能的影响第56-57页
        4.4.2 阴阳极相对位置对电子注性能的影响第57-58页
    4.5 本章小结第58-59页
第五章 总结第59-60页
致谢第60-61页
参考文献第61-64页

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