| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第10-29页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第10-12页 |
| 1.2 铝合金表面处理技术 | 第12-16页 |
| 1.2.1 转化膜 | 第12-14页 |
| 1.2.2 镀层技术 | 第14页 |
| 1.2.3 有机高聚物涂装 | 第14-15页 |
| 1.2.4 高能束表面强化 | 第15-16页 |
| 1.3 微弧氧化技术 | 第16-27页 |
| 1.3.1 微弧氧化发展简史 | 第16-17页 |
| 1.3.2 微弧氧化机理沿革 | 第17-21页 |
| 1.3.3 微弧氧化膜的组成及特点 | 第21-23页 |
| 1.3.4 国内微弧氧化技术研究现状 | 第23-24页 |
| 1.3.5 微弧氧化技术的应用及存在的问题 | 第24-26页 |
| 1.3.6 微弧氧化技术的能耗研究 | 第26-27页 |
| 1.4 课题的主要研究内容 | 第27-29页 |
| 2 实验方法 | 第29-38页 |
| 2.1 实验材料 | 第29-30页 |
| 2.2 实验设备 | 第30-32页 |
| 2.2.1 阳极氧化设备 | 第30页 |
| 2.2.2 微弧氧化氧化设备 | 第30-31页 |
| 2.2.3 膜层微观形貌观察、组织分析仪器 | 第31-32页 |
| 2.2.4 其它设备 | 第32页 |
| 2.3 膜层制备 | 第32-34页 |
| 2.3.1 试样制备 | 第32页 |
| 2.3.2 预制氧化膜制备（硬质阳极氧化处理） | 第32-33页 |
| 2.3.3 微弧氧化处理 | 第33-34页 |
| 2.4 膜层结构及形貌表征 | 第34-35页 |
| 2.4.1 膜层厚度检测 | 第34页 |
| 2.4.2 表面形貌分析 | 第34页 |
| 2.4.3 相分析 | 第34-35页 |
| 2.5 膜层性能测试 | 第35-37页 |
| 2.5.1 摩擦性能分析 | 第35-36页 |
| 2.5.2 耐蚀性分析 | 第36-37页 |
| 2.6 实验路线 | 第37-38页 |
| 3 阳极氧化-微弧氧化复合工艺的确定及膜层形成机制的探讨 | 第38-50页 |
| 3.1 预制氧化膜处理时间对铝合金微弧氧化陶瓷膜的影响 | 第38-42页 |
| 3.1.1 预制氧化膜表征 | 第38-39页 |
| 3.1.2 预制氧化膜处理时间对铝合金微弧氧化陶瓷膜表面形貌的影响 | 第39-41页 |
| 3.1.3 预制氧化膜处理时间对铝合金微弧氧化陶瓷膜厚度的影响 | 第41-42页 |
| 3.2 阳极氧化-微弧氧化复合工艺膜层形成机制的探讨 | 第42-49页 |
| 3.2.1 火花放电现象的产生 | 第42-44页 |
| 3.2.2 火花放电区域的蔓延现象 | 第44-45页 |
| 3.2.3 微弧氧化陶瓷膜的形成 | 第45-47页 |
| 3.2.4 膜层表面形貌的形成 | 第47-49页 |
| 3.3 小结 | 第49-50页 |
| 4 预制氧化膜对铝合金微弧氧化陶瓷膜生长的影响 | 第50-66页 |
| 4.1 预制氧化膜对微弧氧化过程中电压值、火花的影响 | 第50-54页 |
| 4.1.1 预制氧化膜对微弧氧化过程中电压值的影响 | 第50-51页 |
| 4.1.2 预制氧化膜对微弧氧化火花演变过程的影响 | 第51-53页 |
| 4.1.3 预制氧化膜对微弧氧化陶瓷膜厚度的影响 | 第53-54页 |
| 4.2 预制氧化膜对铝合金微弧氧化陶瓷膜表面形貌的影响 | 第54-58页 |
| 4.2.1 预制氧化膜对微弧氧化前期表面形貌的影响 | 第54-56页 |
| 4.2.2 预制氧化膜对微弧氧化中期表面形貌的影响 | 第56-57页 |
| 4.2.3 预制氧化膜对微弧氧化后期表面形貌的影响 | 第57-58页 |
| 4.3 相同条件下有无预制氧化膜试样表面陶瓷膜对比分析 | 第58-65页 |
| 4.3.1 A3、A7、B3陶瓷膜相分析 | 第59-61页 |
| 4.3.2 A3、A7、B3陶瓷膜性能对比 | 第61-63页 |
| 4.3.3 A3、A7、B3微弧氧化处理能耗对比 | 第63-65页 |
| 4.4 小结 | 第65-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-72页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文及科研成果 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
