| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 研究背景和意义、目的及意义 | 第9-12页 |
| 1.1.1 研究背景 | 第9-11页 |
| 1.1.2 研究目的和意义 | 第11-12页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第12-15页 |
| 1.2.1 国外研究现状 | 第12-14页 |
| 1.2.2 国内研究现状 | 第14-15页 |
| 1.3 论文的主要研究内容及结构 | 第15-17页 |
| 第2章 投料系统与温度控制 | 第17-23页 |
| 2.1 引言 | 第17页 |
| 2.2 玻璃生产的工艺流程 | 第17-18页 |
| 2.3 投料系统与温度 | 第18-19页 |
| 2.3.1 投料对玻璃质量的影响 | 第18-19页 |
| 2.3.2 温度对玻璃质量的影响 | 第19页 |
| 2.4 投料系统 | 第19-20页 |
| 2.5 温度控制 | 第20-22页 |
| 2.5.1 温度控制原理 | 第21页 |
| 2.5.2 温度控制的结构 | 第21-22页 |
| 2.6 本章小结 | 第22-23页 |
| 第3章 玻璃电熔窑模糊自整定PID控制策略研究 | 第23-45页 |
| 3.1 引言 | 第23页 |
| 3.2 模糊自整定PID的控制原理 | 第23-27页 |
| 3.2.1 传统PID控制原理 | 第23-26页 |
| 3.2.2 模糊控制原理 | 第26-27页 |
| 3.2.3 模糊自整定PID控制原理 | 第27页 |
| 3.3 电熔窑温度模糊自整定PID控制器设计 | 第27-35页 |
| 3.3.1 模糊控制器结构的设计 | 第27-28页 |
| 3.3.2 确定模糊变量参数 | 第28-32页 |
| 3.3.3 模糊控制规则的建立 | 第32-35页 |
| 3.4 模糊自整定PID系统仿真 | 第35-43页 |
| 3.4.1 建立控制系统仿真模型 | 第35-38页 |
| 3.4.2 仿真分析 | 第38-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-45页 |
| 第4章 电熔窑温度与投料监控系统设计 | 第45-63页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 监控系统总体的设计 | 第45-48页 |
| 4.2.1 系统总体构架 | 第45-48页 |
| 4.3 可编程控制器（PLC）的设计 | 第48-52页 |
| 4.3.1 PLC硬件选型 | 第48-49页 |
| 4.3.2 可编程控制器投料程序流程 | 第49-50页 |
| 4.3.3 可编程控制器的地址分配 | 第50-51页 |
| 4.3.4 可编程控制器的PID控制流程设计 | 第51-52页 |
| 4.4 温度监控系统 | 第52-54页 |
| 4.4.1 熔窑温度监控设计 | 第52-53页 |
| 4.4.2 报警界面设计 | 第53-54页 |
| 4.5 投料监控系统 | 第54-57页 |
| 4.5.1 投料主界面设计 | 第54-55页 |
| 4.5.2 用户管理界面设计 | 第55-56页 |
| 4.5.3 投料流程设计 | 第56-57页 |
| 4.6 通讯系统设计 | 第57-62页 |
| 4.6.1 OPC技术简介 | 第58-59页 |
| 4.6.2 PC Access与PLC的通讯设计 | 第59-61页 |
| 4.6.3 PC Access与Win CC的通讯实现 | 第61-62页 |
| 4.7 本章小结 | 第62-63页 |
| 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 致谢 | 第70-72页 |
| 个人简历 | 第72页 |