| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 文献综述 | 第10-27页 |
| 1.1 膜分离技术概述 | 第10-13页 |
| 1.1.1 膜分离技术原理 | 第10页 |
| 1.1.2 分离膜的特点及分类 | 第10-11页 |
| 1.1.3 膜分离技术的应用 | 第11-13页 |
| 1.2 渗透蒸发技术 | 第13-15页 |
| 1.2.1 渗透蒸发简介 | 第13-14页 |
| 1.2.2 膜渗透蒸发性能评价 | 第14-15页 |
| 1.2.3 渗透蒸发中沸石膜 | 第15页 |
| 1.3 沸石分子筛膜概述 | 第15-20页 |
| 1.3.1 沸石分子筛膜简介 | 第15-16页 |
| 1.3.2 沸石分子筛膜的制备方法 | 第16-20页 |
| 1.3.2.1 原位水热合成法 | 第16-17页 |
| 1.3.2.2 二次生长法 | 第17-18页 |
| 1.3.2.3 干凝胶法 | 第18-19页 |
| 1.3.2.4 微波加热合成法 | 第19-20页 |
| 1.3.3 沸石分子筛膜的表征 | 第20页 |
| 1.4 Silicalite-2 分子筛及其沸石膜研究进展 | 第20-24页 |
| 1.4.1 Silicalite-2 沸石的结构特点 | 第20-22页 |
| 1.4.2 Silicalite-2 沸石的研究进展 | 第22-23页 |
| 1.4.3 Silicalite-2 沸石膜的研究现状 | 第23-24页 |
| 1.5 膜材料表面疏水改性方法 | 第24-26页 |
| 1.5.1 化学刻蚀法 | 第25页 |
| 1.5.2 自组装法 | 第25页 |
| 1.5.3 化学气相沉积法 | 第25页 |
| 1.5.4 溶胶-凝胶法 | 第25页 |
| 1.5.5 其他方法 | 第25-26页 |
| 1.6 论文选题与主要研究内容 | 第26-27页 |
| 2 纳米Slicalite-2 沸石分子筛的制备及表征 | 第27-40页 |
| 2.1 引言 | 第27页 |
| 2.2 实验部分 | 第27-29页 |
| 2.2.1 实验所用原材料和设备 | 第27-28页 |
| 2.2.2 Silicalite-2 沸石分子筛的制备 | 第28页 |
| 2.2.3 Silicalite-2 沸石分子筛的表征 | 第28-29页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第29-39页 |
| 2.3.1 模板剂含量对silicalite-2 分子筛生长的影响 | 第29-31页 |
| 2.3.2 合成液水量对silicalite-2 分子筛生长的影响 | 第31-32页 |
| 2.3.3 反应温度对silicalite-2 分子筛生长的影响 | 第32-33页 |
| 2.3.4 陈化时间与晶化时间对silicalite-2 分子筛生长的影响 | 第33-36页 |
| 2.3.5 合成液碱度的探索 | 第36-38页 |
| 2.3.6 silicalite-2 沸石分子筛生长变化规律的总结 | 第38-39页 |
| 2.3.7 成功制备纳米silicalite-2 沸石分子筛 | 第39页 |
| 2.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 3 大孔载体上Silicalite-2 沸石分子筛膜的制备及醇/水分离研究 | 第40-54页 |
| 3.1 引言 | 第40页 |
| 3.2 实验部分 | 第40-44页 |
| 3.2.1 实验所用原材料和设备 | 第40-41页 |
| 3.2.2 载体的预处理 | 第41页 |
| 3.2.3 Silicalite-2 晶种层的制备 | 第41-42页 |
| 3.2.4 二次生长法制备Silicalite-2 沸石膜 | 第42-43页 |
| 3.2.5 Silicalite-2 沸石膜的表征 | 第43-44页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第44-53页 |
| 3.3.1 小晶种涂晶方式的确定 | 第44-45页 |
| 3.3.2 晶化温度对制备Silicalite-2 沸石膜的影响 | 第45-47页 |
| 3.3.3 合成液水含量对制备Silicalite-2 沸石膜的影响 | 第47-50页 |
| 3.3.4 晶化时间对制备Silicalite-2 沸石膜的影响 | 第50-52页 |
| 3.3.5 与文献报道的对比分析 | 第52-53页 |
| 3.4 本章小结 | 第53-54页 |
| 4 疏水改性Silicalite-2 沸石膜的制备及乙醇/水分离研究 | 第54-75页 |
| 4.1 引言 | 第54-55页 |
| 4.2 实验部分 | 第55-57页 |
| 4.2.1 实验所用原材料和设备 | 第55页 |
| 4.2.2 载体的预处理 | 第55页 |
| 4.2.3 Silicalite-2 晶种层的制备 | 第55页 |
| 4.2.4 二次生长法制备Silicalite-2 沸石膜 | 第55页 |
| 4.2.5 硅溶胶的制备及负载沸石膜 | 第55-56页 |
| 4.2.6 三甲基氯硅烷液相修饰反应 | 第56页 |
| 4.2.7 疏水改性Silicalite-2 沸石膜的表征 | 第56-57页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第57-74页 |
| 4.3.1 膜疏水性改善方案的确定 | 第57-60页 |
| 4.3.1.1 TMCS修饰改性后膜表面化学结构与形貌 | 第57-58页 |
| 4.3.1.2 二氧化硅负载后TMCS修饰改性效果 | 第58-60页 |
| 4.3.2 二氧化硅溶胶制备工艺条件考察 | 第60-69页 |
| 4.3.2.1 反应温度对制备硅溶胶修饰效果影响 | 第60-63页 |
| 4.3.2.2 不同TEOS含量制备硅溶胶修饰效果影响 | 第63-67页 |
| 4.3.2.3 氨的量对制备硅溶胶修饰效果影响 | 第67-69页 |
| 4.3.3 TMCS修饰改性工艺条件考察 | 第69-74页 |
| 4.3.3.1 TMCS含量对修饰效果影响 | 第69-71页 |
| 4.3.3.2 修饰反应时间对修饰效果影响 | 第71-72页 |
| 4.3.3.3 修饰反应温度对修饰效果影响 | 第72-74页 |
| 4.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-85页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第85-86页 |
| 致谢 | 第86-87页 |
