摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第12-17页 |
1.1 课题背景及意义 | 第12-13页 |
1.2 远场涡流技术的发展历史以及国内外研究现状 | 第13-15页 |
1.2.1 远场涡流技术的发展历史 | 第13页 |
1.2.2 国外研究现状 | 第13-14页 |
1.2.3 国内研究现状 | 第14页 |
1.2.4 远场涡流技术的发展趋势 | 第14-15页 |
1.3 本文的主要研究内容 | 第15-17页 |
第2章 管道远场涡流基础理论概述 | 第17-21页 |
2.1 管道远场涡流的数学模型 | 第17-18页 |
2.2 远场涡流机理的经典解释 | 第18-19页 |
2.3 有限元建模理论 | 第19-20页 |
2.3.1 有限元方法简介 | 第19页 |
2.3.2 有限元分析过程 | 第19-20页 |
2.3.3 ANSYS有限元分析软件简介 | 第20页 |
2.3.4 Ansoft Maxwell有限元分析软件简介 | 第20页 |
2.4 本章小结 | 第20-21页 |
第3章 压力管道二维建模和仿真分析 | 第21-38页 |
3.1 仿真模型的建立 | 第21-24页 |
3.1.1 几何模型的建立 | 第21-23页 |
3.1.2 网格划分 | 第23-24页 |
3.1.3 边界条件和激励设置 | 第24页 |
3.2 仿真结果分析 | 第24-28页 |
3.2.1 磁场分布及结果分析 | 第24-26页 |
3.2.2 远场涡流仿真数据的选择 | 第26-28页 |
3.2.3 管内、外By沿轴向路径变化趋势对比及分析 | 第28页 |
3.3 检测信号不同影响因素的仿真分析 | 第28-34页 |
3.3.1 管壁厚度对信号曲线的影响 | 第29页 |
3.3.2 管道相对磁导率对信号曲线的影响 | 第29-30页 |
3.3.3 管道电阻率对信号曲线的影响 | 第30-31页 |
3.3.4 管道直径对信号曲线的影响 | 第31-32页 |
3.3.5 激励频率对信号曲线的影响 | 第32页 |
3.3.6 激励电压对信号曲线的影响 | 第32-33页 |
3.3.7 激励线圈直径对信号曲线的影响 | 第33页 |
3.3.8 激励线圈高宽比例对信号曲线的影响 | 第33-34页 |
3.4 屏蔽盘结构对检测信号的影响 | 第34-36页 |
3.4.1 屏蔽盘材料的选择 | 第35页 |
3.4.2 不同屏蔽盘结构下的仿真结果分析 | 第35-36页 |
3.5 本章小结 | 第36-38页 |
第4章 全周向轴对称缺陷仿真分析 | 第38-53页 |
4.1 均匀腐蚀减薄缺陷的仿真分析 | 第38-39页 |
4.2 壁厚沿轴向线性减薄的仿真分析 | 第39-40页 |
4.3 全周向凹槽类缺陷仿真分析 | 第40-51页 |
4.3.1 不同径向位置缺陷的信号特征分析 | 第40-41页 |
4.3.2 不同轴向位置缺陷的信号特征分析 | 第41-42页 |
4.3.3 缺陷间距对信号曲线的影响 | 第42-45页 |
4.3.4 缺陷形状与检测信号的关系分析 | 第45-47页 |
4.3.5 缺陷深度与检测信号的关系分析 | 第47-48页 |
4.3.6 缺陷宽度与检测信号的关系分析 | 第48-49页 |
4.3.7 磁场信号对缺陷尺寸变化的响应灵敏度分析 | 第49-51页 |
4.3.8 缺陷宽度、深度以及检测信号间的关系分析 | 第51页 |
4.4 缺陷信号的特征分析 | 第51-52页 |
4.5 本章小结 | 第52-53页 |
第5章 双层管道建模与缺陷检测仿真分析 | 第53-72页 |
5.1 双层管道远场区的确定 | 第53-56页 |
5.1.1 双层管道探头形式的选择 | 第53-54页 |
5.1.2 双层管道无缺陷信号分析 | 第54-56页 |
5.2 双层管道尺寸对信号曲线的影响 | 第56-58页 |
5.2.1 外管壁厚对信号曲线的影响 | 第56页 |
5.2.2 内管壁厚对信号曲线的影响 | 第56-57页 |
5.2.3 内、外管间距对信号曲线的影响 | 第57-58页 |
5.3 缺陷位置区分试验 | 第58-61页 |
5.3.1 不同位置缺陷的信号分布 | 第58-60页 |
5.3.2 缺陷定位的方法 | 第60-61页 |
5.4 外管缺陷对信号曲线的影响 | 第61-63页 |
5.4.1 外管缺陷宽度与检测信号的关系分析 | 第61-62页 |
5.4.2 外管缺陷深度与检测信号的关系分析 | 第62-63页 |
5.5 内管缺陷对信号曲线的影响 | 第63-65页 |
5.5.1 内管缺陷宽度与检测信号的关系分析 | 第63-64页 |
5.5.2 内管缺陷深度与检测信号的关系分析 | 第64-65页 |
5.6 磁场信号对内、外管缺陷尺寸变化的响应灵敏度分析 | 第65-67页 |
5.7 内管和外管缺陷信号对比分析 | 第67页 |
5.8 屏蔽盘结构对双层管道检测信号的影响 | 第67-70页 |
5.8.1 提前内管远场区的屏蔽盘结构 | 第68-70页 |
5.8.2 提前外管远场区的屏蔽盘结构 | 第70页 |
5.9 远场涡流技术在双层管道探伤中的优势 | 第70-71页 |
5.10 本章小结 | 第71-72页 |
第6章 三维建模与仿真分析 | 第72-77页 |
6.1 仿真方式的选择 | 第72页 |
6.2 新型远场涡流检测探头的提出 | 第72-73页 |
6.3 局部缺陷模型简化 | 第73-74页 |
6.4 耦合电路的定义 | 第74-75页 |
6.5 网格剖分和求解设定 | 第75页 |
6.6 仿真结果及分析 | 第75-76页 |
6.7 本章小结 | 第76-77页 |
第7章 管道缺陷检测试验研究 | 第77-89页 |
7.1 预制缺陷试件的检测及分析 | 第77-79页 |
7.1.1 实验仪器 | 第77页 |
7.1.2 预制缺陷的试件 | 第77-78页 |
7.1.3 实验内容和步骤 | 第78页 |
7.1.4 检测结果及分析 | 第78-79页 |
7.2 机械式探头拔推装置的研制与性能测试 | 第79-82页 |
7.2.1 机械式探头拔推装置的研制 | 第79-81页 |
7.2.2 机械式探头拔推装置的性能测试 | 第81-82页 |
7.3 新型远场涡流检测探头的研制与性能测试 | 第82-83页 |
7.3.1 新型远场涡流检测探头的研制 | 第82页 |
7.3.2 新型远场涡流检测探头的性能测试 | 第82-83页 |
7.4 点环式涡流检测探头的研制与性能测试 | 第83-85页 |
7.4.1 点环式涡流检测探头的研制 | 第83页 |
7.4.2 点环式涡流检测探头与新型远场涡流检测探头的对比 | 第83-84页 |
7.4.3 点环式涡流检测探头的性能测试 | 第84-85页 |
7.5 辅助检测装置的研制与性能测试 | 第85-88页 |
7.5.1 辅助检测装置的研制 | 第85-86页 |
7.5.2 辅助检测装置的性能测试 | 第86-88页 |
7.6 本章小结 | 第88-89页 |
结论 | 第89-92页 |
参考文献 | 第92-96页 |
攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第96页 |