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管道远场涡流检测实用技术仿真与试验研究

摘要第5-6页
ABSTRACT第6-7页
第1章 绪论第12-17页
    1.1 课题背景及意义第12-13页
    1.2 远场涡流技术的发展历史以及国内外研究现状第13-15页
        1.2.1 远场涡流技术的发展历史第13页
        1.2.2 国外研究现状第13-14页
        1.2.3 国内研究现状第14页
        1.2.4 远场涡流技术的发展趋势第14-15页
    1.3 本文的主要研究内容第15-17页
第2章 管道远场涡流基础理论概述第17-21页
    2.1 管道远场涡流的数学模型第17-18页
    2.2 远场涡流机理的经典解释第18-19页
    2.3 有限元建模理论第19-20页
        2.3.1 有限元方法简介第19页
        2.3.2 有限元分析过程第19-20页
        2.3.3 ANSYS有限元分析软件简介第20页
        2.3.4 Ansoft Maxwell有限元分析软件简介第20页
    2.4 本章小结第20-21页
第3章 压力管道二维建模和仿真分析第21-38页
    3.1 仿真模型的建立第21-24页
        3.1.1 几何模型的建立第21-23页
        3.1.2 网格划分第23-24页
        3.1.3 边界条件和激励设置第24页
    3.2 仿真结果分析第24-28页
        3.2.1 磁场分布及结果分析第24-26页
        3.2.2 远场涡流仿真数据的选择第26-28页
        3.2.3 管内、外By沿轴向路径变化趋势对比及分析第28页
    3.3 检测信号不同影响因素的仿真分析第28-34页
        3.3.1 管壁厚度对信号曲线的影响第29页
        3.3.2 管道相对磁导率对信号曲线的影响第29-30页
        3.3.3 管道电阻率对信号曲线的影响第30-31页
        3.3.4 管道直径对信号曲线的影响第31-32页
        3.3.5 激励频率对信号曲线的影响第32页
        3.3.6 激励电压对信号曲线的影响第32-33页
        3.3.7 激励线圈直径对信号曲线的影响第33页
        3.3.8 激励线圈高宽比例对信号曲线的影响第33-34页
    3.4 屏蔽盘结构对检测信号的影响第34-36页
        3.4.1 屏蔽盘材料的选择第35页
        3.4.2 不同屏蔽盘结构下的仿真结果分析第35-36页
    3.5 本章小结第36-38页
第4章 全周向轴对称缺陷仿真分析第38-53页
    4.1 均匀腐蚀减薄缺陷的仿真分析第38-39页
    4.2 壁厚沿轴向线性减薄的仿真分析第39-40页
    4.3 全周向凹槽类缺陷仿真分析第40-51页
        4.3.1 不同径向位置缺陷的信号特征分析第40-41页
        4.3.2 不同轴向位置缺陷的信号特征分析第41-42页
        4.3.3 缺陷间距对信号曲线的影响第42-45页
        4.3.4 缺陷形状与检测信号的关系分析第45-47页
        4.3.5 缺陷深度与检测信号的关系分析第47-48页
        4.3.6 缺陷宽度与检测信号的关系分析第48-49页
        4.3.7 磁场信号对缺陷尺寸变化的响应灵敏度分析第49-51页
        4.3.8 缺陷宽度、深度以及检测信号间的关系分析第51页
    4.4 缺陷信号的特征分析第51-52页
    4.5 本章小结第52-53页
第5章 双层管道建模与缺陷检测仿真分析第53-72页
    5.1 双层管道远场区的确定第53-56页
        5.1.1 双层管道探头形式的选择第53-54页
        5.1.2 双层管道无缺陷信号分析第54-56页
    5.2 双层管道尺寸对信号曲线的影响第56-58页
        5.2.1 外管壁厚对信号曲线的影响第56页
        5.2.2 内管壁厚对信号曲线的影响第56-57页
        5.2.3 内、外管间距对信号曲线的影响第57-58页
    5.3 缺陷位置区分试验第58-61页
        5.3.1 不同位置缺陷的信号分布第58-60页
        5.3.2 缺陷定位的方法第60-61页
    5.4 外管缺陷对信号曲线的影响第61-63页
        5.4.1 外管缺陷宽度与检测信号的关系分析第61-62页
        5.4.2 外管缺陷深度与检测信号的关系分析第62-63页
    5.5 内管缺陷对信号曲线的影响第63-65页
        5.5.1 内管缺陷宽度与检测信号的关系分析第63-64页
        5.5.2 内管缺陷深度与检测信号的关系分析第64-65页
    5.6 磁场信号对内、外管缺陷尺寸变化的响应灵敏度分析第65-67页
    5.7 内管和外管缺陷信号对比分析第67页
    5.8 屏蔽盘结构对双层管道检测信号的影响第67-70页
        5.8.1 提前内管远场区的屏蔽盘结构第68-70页
        5.8.2 提前外管远场区的屏蔽盘结构第70页
    5.9 远场涡流技术在双层管道探伤中的优势第70-71页
    5.10 本章小结第71-72页
第6章 三维建模与仿真分析第72-77页
    6.1 仿真方式的选择第72页
    6.2 新型远场涡流检测探头的提出第72-73页
    6.3 局部缺陷模型简化第73-74页
    6.4 耦合电路的定义第74-75页
    6.5 网格剖分和求解设定第75页
    6.6 仿真结果及分析第75-76页
    6.7 本章小结第76-77页
第7章 管道缺陷检测试验研究第77-89页
    7.1 预制缺陷试件的检测及分析第77-79页
        7.1.1 实验仪器第77页
        7.1.2 预制缺陷的试件第77-78页
        7.1.3 实验内容和步骤第78页
        7.1.4 检测结果及分析第78-79页
    7.2 机械式探头拔推装置的研制与性能测试第79-82页
        7.2.1 机械式探头拔推装置的研制第79-81页
        7.2.2 机械式探头拔推装置的性能测试第81-82页
    7.3 新型远场涡流检测探头的研制与性能测试第82-83页
        7.3.1 新型远场涡流检测探头的研制第82页
        7.3.2 新型远场涡流检测探头的性能测试第82-83页
    7.4 点环式涡流检测探头的研制与性能测试第83-85页
        7.4.1 点环式涡流检测探头的研制第83页
        7.4.2 点环式涡流检测探头与新型远场涡流检测探头的对比第83-84页
        7.4.3 点环式涡流检测探头的性能测试第84-85页
    7.5 辅助检测装置的研制与性能测试第85-88页
        7.5.1 辅助检测装置的研制第85-86页
        7.5.2 辅助检测装置的性能测试第86-88页
    7.6 本章小结第88-89页
结论第89-92页
参考文献第92-96页
攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果第96页

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