磁瓦缺陷自动检测关键技术研究
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| 1.1 课题研究的背景和意义 | 第10-11页 |
| 1.1.1 课题研究的背景 | 第10-11页 |
| 1.1.2 课题研究的意义 | 第11页 |
| 1.2 国内外研究现状与分析 | 第11-14页 |
| 1.2.1 机器视觉理论的研究现状 | 第11-13页 |
| 1.2.2 磁瓦缺陷检测技术的研究现状 | 第13-14页 |
| 1.3 课题的研究内容 | 第14-15页 |
| 1.4 本章小结 | 第15-16页 |
| 第二章 磁瓦缺陷的分析 | 第16-19页 |
| 2.1 永磁电机和磁瓦的结构以及缺陷产生机理 | 第16-17页 |
| 2.2 磁瓦缺陷的特征分析 | 第17-18页 |
| 2.3 本章小结 | 第18-19页 |
| 第三章 磁瓦缺陷视觉检测系统的分析与设计 | 第19-38页 |
| 3.1 视觉检测系统图像采集部分的设计 | 第19-25页 |
| 3.1.1 照明系统的设计 | 第19-22页 |
| 3.1.2 相机的选择 | 第22-23页 |
| 3.1.3 镜头的选择 | 第23-25页 |
| 3.1.4 检测系统图像采集部分的搭建 | 第25页 |
| 3.2 视觉检测系统图像处理部分的设计 | 第25-35页 |
| 3.2.1 图像处理开发环境 | 第26页 |
| 3.2.2 镜头的畸变和相机的标定 | 第26-28页 |
| 3.2.3 图像处理算法研究 | 第28-35页 |
| 3.3 图像处理流程 | 第35-37页 |
| 3.4 上位机检测软件开发 | 第37页 |
| 3.5 本章小结 | 第37-38页 |
| 第四章 磁瓦表面缺陷检测装置设计与研究 | 第38-50页 |
| 4.1 面向生产线的磁瓦缺陷实时检测机构 | 第38-40页 |
| 4.2 面向需求方验货的磁瓦缺陷自动检测机构 | 第40-43页 |
| 4.3 磁瓦缺陷检测实验设备的设计与分析 | 第43-49页 |
| 4.3.1 磁瓦的抓取系统 | 第44-46页 |
| 4.3.2 磁瓦抓取移动机构 | 第46-47页 |
| 4.3.3 磁瓦翻转机构 | 第47-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 控制系统设计与研究 | 第50-57页 |
| 5.1 控制系统总体设计 | 第50页 |
| 5.2 控制系统硬件 | 第50-51页 |
| 5.3 控制系统基本电路 | 第51-53页 |
| 5.3.1 相机拍照控制 | 第51-52页 |
| 5.3.2 电机驱动控制 | 第52-53页 |
| 5.4 控制系统软件设计 | 第53-56页 |
| 5.4.1 编程软件的选择 | 第53页 |
| 5.4.2 程序设计 | 第53-56页 |
| 5.5 本章小结 | 第56-57页 |
| 第六章 实验设计与研究 | 第57-60页 |
| 6.1 实验平台搭建与调试 | 第57-58页 |
| 6.2 磁瓦表面缺陷检测实验与分析 | 第58-59页 |
| 6.3 本章小结 | 第59-60页 |
| 第七章 结论与展望 | 第60-62页 |
| 7.1 结论 | 第60页 |
| 7.2 展望 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
