| 摘要 | 第5-9页 |
| ABSTRACT | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第13-23页 |
| 第二章 提高 KDP晶体光学质量的研究 | 第23-110页 |
| 2.1 KDP晶体光学质量的主要指标:激光损伤闭值和光学均匀性 | 第23-70页 |
| 2.1.1 引言 | 第23-24页 |
| 2.1.2 KDP晶体激光损伤机理及光学均匀性的研究 | 第24-65页 |
| 2.1.2.1 激光损伤机理及光学均匀性的初步探索 | 第24-35页 |
| 2.1.2.2 点缺陷对激光损伤的影响 | 第35-65页 |
| 2.1.2.2.1 理论研究方法 | 第35-38页 |
| 2.1.2.2.2 KDP晶体中的点缺陷及内耗初步研究 | 第38-44页 |
| 2.1.2.2.3 钾空位对 KDP晶体激光损伤的影响 | 第44-49页 |
| 2.1.2.2.4 钠取代钾点缺陷对激光损伤的影响 | 第49-53页 |
| 2.1.2.2.5 间隙氧点缺陷诱导的激光损伤 | 第53-63页 |
| 2.1.2.2.6 硫取代磷点缺陷对激光损伤的影响 | 第63-65页 |
| 2.1.3 本章小结 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 2.2 从生长过程入手提高 KDP晶体光学质量 | 第70-99页 |
| 2.2.1 引言 | 第70-71页 |
| 2.2.2 研究方法 | 第71-73页 |
| 2.2.3 槽内温场及流动场的瞬态研究 | 第73-76页 |
| 2.2.4 影响生长槽内温场及流动场的各种因素 | 第76-97页 |
| 2.2.4.1 槽体长度及直径的影响 | 第76-81页 |
| 2.2.4.2 晶体尺寸的影响 | 第81-88页 |
| 2.2.4.3 晶体转速的影响 | 第88-90页 |
| 2.2.4.4 溶液流量的影响 | 第90-91页 |
| 2.2.4.5 溶液入流方向的影响 | 第91-92页 |
| 2.2.4.6 出流管位置的影响 | 第92-94页 |
| 2.2.4.7 槽底锥度的影响 | 第94-95页 |
| 2.2.4.8 生长槽优化设计 | 第95-97页 |
| 2.2.5 本章小结 | 第97-98页 |
| 参考文献 | 第98-99页 |
| 2.3 从后处理入手提高 KDP晶体光学质量 | 第99-110页 |
| 2.3.1 引言 | 第99页 |
| 2.3.2 退火炉工艺设计 | 第99-104页 |
| 2.3.3 KDP晶体热退火实验 | 第104-108页 |
| 2.3.4 本章小结 | 第108页 |
| 参考文献 | 第108-110页 |
| 第三章 有机配合物型晶体 CMTD生长机理的研究 | 第110-142页 |
| 3.1 引言 | 第110页 |
| 3.2 表面形貌及微观生长机理的研究 | 第110-138页 |
| 3.2.1 (001)面的表面形貌观测及其结晶形态研究 | 第110-121页 |
| 3.2.2 双基台阶生长机制 | 第121-124页 |
| 3.2.3 二维核叠层生长现象 | 第124-129页 |
| 3.2.4 螺旋位错生长机理 | 第129-132页 |
| 3.2.5 表面形貌动态观察 | 第132-138页 |
| 3.3 本章小结 | 第138-139页 |
| 参考文献 | 第139-142页 |
| 第四章 结论 | 第142-148页 |
| 4.1 主要结论 | 第142-146页 |
| 4.2 主要创新点 | 第146页 |
| 4.3 有待深入研究的内容 | 第146-148页 |
| 附录 | 第148-151页 |
| 读博士期间发表的论文 | 第148-150页 |
| 所获奖励 | 第150-151页 |
| 致谢 | 第151页 |
