酞菁类光电材料的合成研究
| 前言 | 第7-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-22页 |
| 1.1 光电导材料和有机光导体 | 第8-9页 |
| 1.2 电荷产生材料 | 第9-11页 |
| 1.3 酞菁的结构、性能、应用及合成 | 第11-17页 |
| 1.3.1 酞菁的结构特点 | 第11-12页 |
| 1.3.2 酞菁的特性 | 第12-13页 |
| 1.3.3 酞菁的应用 | 第13-14页 |
| 1.3.4 酞菁化合物的合成路线及机理 | 第14-17页 |
| 1.4 酞菁硅的合成及应用 | 第17-20页 |
| 1.4.1 酞菁硅的合成 | 第17-18页 |
| 1.4.2 酞菁硅在光电材料方面的应用 | 第18-20页 |
| 1.5 酞菁硅纳米粒子的制备 | 第20-21页 |
| 1.6 论文的研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 实验部分 | 第22-26页 |
| 2.1 实验试剂及仪器 | 第22-23页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第22页 |
| 2.1.2 测试仪器 | 第22-23页 |
| 2.2 实验方法 | 第23-24页 |
| 2.2.1 无金属酞菁的合成 | 第23-24页 |
| 2.2.2 二氯酞菁硅的合成 | 第24页 |
| 2.2.3 二羟基酞菁硅的合成 | 第24页 |
| 2.3 分析与测试 | 第24-26页 |
| 第三章 结果与讨论 | 第26-41页 |
| 3.1 无金属酞菁的合成研究 | 第26-32页 |
| 3.1.1 反应体系的确定 | 第26-27页 |
| 3.1.2 反应时间的确定 | 第27页 |
| 3.1.3 原料配比的确定 | 第27-28页 |
| 3.1.4 添加剂的影响 | 第28-30页 |
| 3.1.5 结构表征 | 第30-32页 |
| 3.2 二氯酞菁硅的合成研究 | 第32-36页 |
| 3.2.1 温度对反应的影响 | 第32-33页 |
| 3.2.2 回流时间的影响 | 第33页 |
| 3.2.3 后处理的影响 | 第33-34页 |
| 3.2.4 结构表征 | 第34-36页 |
| 3.3 二羟基酞菁硅的合成研究 | 第36-41页 |
| 3.3.1 碱处理法 | 第36-38页 |
| 3.3.2 酸处理法 | 第38-41页 |
| 第四章 结论 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-44页 |
| 发表论文情况 | 第44-45页 |
| 附录 | 第45-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
