摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-20页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 纳米材料及纳米半导体材料的基本特性 | 第11-13页 |
1.2.1 纳米材料的基本特性 | 第12页 |
1.2.2 纳米半导体的特性 | 第12-13页 |
1.3 光催化反应的应用 | 第13-14页 |
1.4 光催化反应机理 | 第14-17页 |
1.4.1 单一半导体光催化剂 | 第15页 |
1.4.2 复合半导体光催化剂 | 第15-17页 |
1.5 光催化降解的影响因素 | 第17-18页 |
1.6 论文的研究目的及主要研究内容 | 第18-20页 |
第2章 磁性纳米胶囊的制备及表征 | 第20-25页 |
2.1 纳米材料的制备方法综述 | 第20-21页 |
2.1.1 物理法制备纳米材料 | 第20页 |
2.1.2 化学法制备纳米材料 | 第20-21页 |
2.2 纳米材料的表征方法综述 | 第21-25页 |
2.2.1 结构表征方法 | 第21-23页 |
2.2.2 性能表征方法 | 第23-25页 |
第3章 Ni@ZnO及Ni@ZnO@TiO_2光催化剂的制备和性能 | 第25-32页 |
3.1 引言 | 第25页 |
3.2 Ni@ZnO及Ni@ZnO@TiO_2纳米胶囊的制备 | 第25-27页 |
3.2.1 制备Ni-ZnO阳极靶材 | 第25页 |
3.2.2 等离子体法制备Ni@ZnO纳米胶囊 | 第25-27页 |
3.2.3 Ni@ZnO@TiO_2纳米胶囊的制备 | 第27页 |
3.3 结果分析与讨论 | 第27-31页 |
3.3.1 Ni@ZnO及Ni@ZnO@Ti O_2纳米胶囊的XRD分析 | 第27-28页 |
3.3.2 Ni@ZnO及Ni@ZnO@Ti O_2纳米胶囊的透射电镜分析 | 第28-29页 |
3.3.3 Ni@ZnO及Ni@ZnO@Ti O_2纳米胶囊磁性能分析 | 第29页 |
3.3.4 Ni@ZnO及Ni@ZnO@Ti O_2纳米胶囊的光催化降解曲线分析 | 第29-30页 |
3.3.5 Ni@ZnO及Ni@ZnO@Ti O_2纳米胶囊的PL谱图分析 | 第30-31页 |
3.4 本章小结 | 第31-32页 |
第4章 Ni@C@Bi_2O_3光催化剂的制备与性能研究 | 第32-39页 |
4.1 引言 | 第32页 |
4.2 Ni@C@Bi_2O_3纳米胶囊的制备 | 第32-33页 |
4.2.1 Ni@C纳米胶囊的制备 | 第32-33页 |
4.2.2 Ni@C@Bi_2O_3纳米胶囊的制备 | 第33页 |
4.2.3 晶化 | 第33页 |
4.3 样品的测试与表征 | 第33-38页 |
4.3.1 Ni@C@Bi_2O_3纳米胶囊的XRD测试 | 第33-34页 |
4.3.2 Ni@C和Ni@C@Bi_2O_3的形貌及核壳结构 | 第34-35页 |
4.3.3 Ni@C@Bi_2O_3纳米胶囊的磁性能分析 | 第35-36页 |
4.3.4 Ni@C@Bi_2O_3纳米胶囊的光催化性能分析及原理 | 第36-38页 |
4.3.5 Ni@C@Bi_2O_3纳米胶囊的PL谱图分析 | 第38页 |
4.4 本章小结 | 第38-39页 |
第5章 CPNB@GO复合光催化剂的制备与性能研究初探 | 第39-48页 |
5.1 引言 | 第39页 |
5.2 CPNB@GO复合光催化剂的制备 | 第39-41页 |
5.2.1 CPNB(配位聚合物纳米带)的制备 | 第39-40页 |
5.2.2 GO(氧化石墨烯)的制备(Hummer法) | 第40页 |
5.2.3 CPNB@GO复合物的制备 | 第40-41页 |
5.3 结果分析与讨论 | 第41-47页 |
5.3.1 CPNB、GO及CPNB@GO的XRD分析 | 第41页 |
5.3.2 GO的扫描电镜分析 | 第41-42页 |
5.3.3 CPNB@GO复合物扫描电镜照片分析 | 第42-43页 |
5.3.4 CPNB及CPNB@GO复合物XPS曲线分析 | 第43-44页 |
5.3.5 CPNB及CPNB@GO复合物光学性能分析 | 第44-45页 |
5.3.6 CPNB、CPNB@GO和CPNB/GO复合物催化性能分析 | 第45-46页 |
5.3.7 CPNB@GO复合物光催化机理探究 | 第46-47页 |
5.3.8 展望 | 第47页 |
5.4 本章小结 | 第47-48页 |
第6章 结论 | 第48-50页 |
参考文献 | 第50-53页 |
在学研究成果 | 第53-54页 |
致谢 | 第54页 |