| 摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 表面增强拉曼光谱的研究背景 | 第9-12页 |
| 1.1.1 拉曼光谱 | 第9-10页 |
| 1.1.2 表面增强拉曼光谱 | 第10-11页 |
| 1.1.3 表面增强拉曼的基本原理 | 第11-12页 |
| 1.1.3.1 物理增强 | 第11-12页 |
| 1.1.3.2 化学增强 | 第12页 |
| 1.2 表面增强拉曼光谱的应用 | 第12-14页 |
| 1.2.1 环境和食品检测 | 第12-13页 |
| 1.2.2 医学检测 | 第13-14页 |
| 1.3 常见的表面增强拉曼基底及其制备方法 | 第14-16页 |
| 1.3.1 金属溶胶 | 第14页 |
| 1.3.2 粗糙金属电极 | 第14-15页 |
| 1.3.3 金属岛膜 | 第15页 |
| 1.3.4 纳米复合材料 | 第15-16页 |
| 1.3.5 新材料 | 第16页 |
| 1.4 商业化的SERS基底及存在的问题 | 第16页 |
| 1.5 本文的主要研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 单晶硅表面微结构的制备原理及方法 | 第18-26页 |
| 2.1 单晶硅材料 | 第18-20页 |
| 2.1.1 硅材料 | 第18页 |
| 2.1.2 单晶硅晶体结构 | 第18-20页 |
| 2.2 单晶硅的各向异性腐蚀机理 | 第20-21页 |
| 2.3 单晶硅表面微结构的应用 | 第21-22页 |
| 2.3.1 单晶硅表面微结构在太阳电池上的应用 | 第21-22页 |
| 2.3.2 单晶硅表面微结构在SERS基底上的应用 | 第22页 |
| 2.4 实验材料、仪器及分析软件 | 第22-25页 |
| 2.4.1 实验材料及仪器 | 第22-24页 |
| 2.4.2 实验分析软件 | 第24-25页 |
| 2.5 实验方法 | 第25-26页 |
| 第三章 单晶硅表面微结构的制备 | 第26-43页 |
| 3.1 实验流程 | 第26-28页 |
| 3.2 实验方案 | 第28页 |
| 3.3 实验结果及讨论 | 第28-41页 |
| 3.3.1 NaOH浓度对单晶硅表面微结构的影响 | 第28-31页 |
| 3.3.2 反应温度对单晶硅表面微结构的影响 | 第31-35页 |
| 3.3.3 反应时间对单晶硅表面微结构的影响 | 第35-38页 |
| 3.3.4 添加剂浓度对单晶硅表面微结构的影响 | 第38-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 第四章 单晶硅拉曼基底的制备及其特性研究 | 第43-52页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 实验仪器与试剂 | 第43-44页 |
| 4.2.1 实验仪器 | 第43-44页 |
| 4.2.2 实验试剂 | 第44页 |
| 4.3 拉曼基底的制备 | 第44-47页 |
| 4.3.1 表面增强拉曼基底的制备方法 | 第44-45页 |
| 4.3.2 表面增强拉曼基底最佳镀膜厚度的探究 | 第45-47页 |
| 4.4 拉曼基底表面增强拉曼散射特性研究 | 第47-50页 |
| 4.5 本章小结 | 第50-52页 |
| 第五章 总结与展望 | 第52-55页 |
| 5.1 总结 | 第52-53页 |
| 5.2 本文创新点 | 第53页 |
| 5.3 展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-61页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文和研究成果 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |