| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第9-32页 |
| 1.1 光在金属薄膜中的折射效应 | 第9-10页 |
| 1.2 金属基人工负折射材料概述 | 第10-15页 |
| 1.2.1 负折射材料的研究进展 | 第11-13页 |
| 1.2.2 负折射材料的应用 | 第13-15页 |
| 1.3 太阳光谱选择性吸收薄膜介绍 | 第15-21页 |
| 1.3.1 太阳能资源概述 | 第15-17页 |
| 1.3.3 太阳光谱选择性吸收薄膜概述 | 第17-21页 |
| 1.4 论文研究工作概述 | 第21-23页 |
| 1.4.1 目的和意义 | 第21-22页 |
| 1.4.2 论文工作的主要内容 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-32页 |
| 第二章 光在金属基界面传输特性的实验研究 | 第32-74页 |
| 2.1 实验制备系统及方法 | 第32-43页 |
| 2.1.1 溅射原理及LAB600SP溅射真空镀膜系统简介 | 第32-39页 |
| 2.1.2 样品生长平台 | 第39-42页 |
| 2.1.3 实验制备方法 | 第42-43页 |
| 2.2 实验测量系统及方法 | 第43-53页 |
| 2.2.1 折射角的光路测量系统 | 第43-47页 |
| 2.2.2 折射角的测量方法 | 第47-50页 |
| 2.2.3 RAP型椭圆偏振光谱仪(SE)系统 | 第50-53页 |
| 2.3 样品表面形貌及结构测量 | 第53-58页 |
| 2.3.1 AFM测量结果 | 第53-56页 |
| 2.3.2 SEM测量结果 | 第56-58页 |
| 2.4 实验测量结果及分析 | 第58-71页 |
| 2.4.1 贵金属/介质界面的折射特性测量 | 第58-65页 |
| 2.4.2 贵金属薄膜的光学常数测量 | 第65-68页 |
| 2.4.3 过渡金属/介质界面的折射特性测量 | 第68-70页 |
| 2.4.4 过渡金属薄膜的光学常数测量 | 第70-71页 |
| 2.5 小结 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-74页 |
| 第三章 光在金属基界面传输特性的分析 | 第74-101页 |
| 3.1 金属中的电子跃迁理论与色散模型 | 第74-80页 |
| 3.2 金属/介质界面光的传输路径 | 第80-85页 |
| 3.3 Drude模型中的等离子共振条件 | 第85-89页 |
| 3.4 负磁导率效应 | 第89-90页 |
| 3.5 Goos-Hanchen效应 | 第90-91页 |
| 3.6 金属环的光学磁性 | 第91-92页 |
| 3.7 受折射率控制的光速可变机理 | 第92-96页 |
| 3.8 小结 | 第96页 |
| 参考文献 | 第96-101页 |
| 第四章 干涉型金属基太阳光谱选择性吸收薄膜研究 | 第101-135页 |
| 4.1 薄膜设计原理 | 第101-103页 |
| 4.2 模拟计算方法 | 第103-105页 |
| 4.3 模拟计算结果及分析 | 第105-112页 |
| 4.3.1 薄膜光谱特性及材料选择 | 第105-109页 |
| 4.3.2 热辐射率计算 | 第109-112页 |
| 4.4 实验制备及测量方法 | 第112-116页 |
| 4.4.1 实验制备方法 | 第112-114页 |
| 4.4.2 实验测量方法 | 第114-116页 |
| 4.5 薄膜的结构特性 | 第116-120页 |
| 4.6 薄膜的光学特性 | 第120-130页 |
| 4.6.1 薄膜的吸收特性 | 第122-124页 |
| 4.6.2 薄膜吸收特性受入射角变化的影响 | 第124-127页 |
| 4.6.3 薄膜吸收特性受各膜层厚度变化的影响 | 第127-130页 |
| 4.7 薄膜的热学特性 | 第130-132页 |
| 4.7.1 薄膜的热稳定性 | 第130-131页 |
| 4.7.2 薄膜的热辐射率 | 第131-132页 |
| 4.8 小结 | 第132-133页 |
| 参考文献 | 第133-135页 |
| 第五章 论文工作总结与展望 | 第135-138页 |
| 附：攻读博士学位期间学术成果 | 第138-140页 |
| 致谢 | 第140-142页 |