摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第1章 绪论 | 第10-22页 |
1.1 课题背景及研究意义 | 第10-11页 |
1.2 铁电薄膜的结构及铁电性 | 第11-13页 |
1.2.1 铁电薄膜的结构 | 第11页 |
1.2.2 铁电薄膜的铁电性 | 第11-13页 |
1.3 铁电薄膜的自极化行为研究 | 第13-16页 |
1.4 BiFeO_3的概述 | 第16-18页 |
1.4.1 BiFeO_3的结构 | 第17页 |
1.4.2 BiFeO_3的铁电性 | 第17-18页 |
1.5 铁电薄膜制备方法 | 第18-20页 |
1.5.1 溶胶凝胶法 | 第18页 |
1.5.2 磁控溅射法 | 第18-19页 |
1.5.3 真空蒸镀法 | 第19-20页 |
1.5.4 金属有机化学气相沉积法 | 第20页 |
1.6 本文主要研究内容 | 第20-22页 |
第2章 实验材料及分析方法 | 第22-28页 |
2.1 引言 | 第22页 |
2.2 实验材料 | 第22-23页 |
2.2.1 衬底材料 | 第22页 |
2.2.2 BiFeO_3薄膜所需材料 | 第22页 |
2.2.3 种子层薄膜所需材料 | 第22-23页 |
2.3 实验具体过程 | 第23-25页 |
2.3.1 BiFeO_3薄膜的制备 | 第23-24页 |
2.3.2 种子层的制备 | 第24-25页 |
2.3.3 Pt顶电极的制备 | 第25页 |
2.4 材料表征方法及性能测试 | 第25-28页 |
2.4.1 BiFeO_3物相结构测试分析 | 第25-26页 |
2.4.2 BiFeO_3表面形貌及电畴测试分析 | 第26页 |
2.4.3 BiFeO_3厚度的测量 | 第26页 |
2.4.4 BiFeO_3铁电测试分析 | 第26页 |
2.4.5 BiFeO_3的I-V特性分析 | 第26页 |
2.4.6 BiFeO_3的介电测试分析 | 第26-27页 |
2.4.7 BiFeO_3禁带宽度计算 | 第27-28页 |
第3章 BiFeO_3薄膜的组织结构及电学性能研究 | 第28-45页 |
3.1 引言 | 第28页 |
3.2 制备工艺对BiFeO_3薄膜组织与性能的影响 | 第28-36页 |
3.2.1 Bi过量对Bi FeO3薄膜组织与性能的影响 | 第28-32页 |
3.2.2 稳定剂对BiFeO_3薄膜组织与性能的影响 | 第32-36页 |
3.3 种子层对BiFeO_3薄膜组织与性能的影响 | 第36-44页 |
3.3.1 不同种子层对BiFeO_3薄膜组织与性能的影响 | 第36-41页 |
3.3.2 LNO种子层退火温度对BiFeO_3薄膜组织与性能的影响 | 第41-44页 |
3.4 本章小结 | 第44-45页 |
第4章 Li~+-Nb~(5+)共掺杂BiFeO_3薄膜的自极化与性能 | 第45-64页 |
4.1 引言 | 第45页 |
4.2 Li~+-Nb~(5+)共掺杂对(Li_(0.5)Nb_(0.5))_xBi(1-x)FeO_3薄膜组织与性能的影响 | 第45-52页 |
4.2.1 Li~+-Nb~(5+)掺杂量对(Li_(0.5)Nb_(0.5))_xBi(1-x)FeO_3薄膜结构的影响 | 第46-47页 |
4.2.2 Li~+-Nb~(5+)掺杂量对(Li_(0.5)Nb_(0.5))_xBi(1-x)FeO_3薄膜介电性能的影响 | 第47-48页 |
4.2.3 Li~+-Nb~(5+)掺杂量对(Li_(0.5)Nb_(0.5))_xBi(1-x)FeO_3薄膜铁电性能的影响 | 第48页 |
4.2.4 Li~+-Nb~(5+)掺杂量对(Li_(0.5)Nb_(0.5))_xBi(1-x)FeO_3薄膜I-V特性的影响 | 第48-49页 |
4.2.5 Li~+-Nb~(5+)掺杂量对(Li_(0.5)Nb_(0.5))_xBi(1-x)FeO_3薄膜电畴形貌的影响 | 第49-52页 |
4.3 退火温度对(Li_(0.5)Nb_(0.5))_(0.05)Bi_(0.95)FeO_3薄膜的影响 | 第52-57页 |
4.3.1 退火温度对(Li_(0.5)Nb_(0.5))_(0.05)Bi_(0.95)FeO_3薄膜结构的影响 | 第52-53页 |
4.3.2 退火温度对(Li_(0.5)Nb_(0.5))_(0.05)Bi_(0.95)FeO_3薄膜介电性能的影响 | 第53-54页 |
4.3.3 退火温度对(Li_(0.5)Nb_(0.5))_(0.05)Bi_(0.95)FeO_3薄膜铁电性能的影响 | 第54页 |
4.3.4 退火温度对(Li_(0.5)Nb_(0.5))_(0.05)Bi_(0.95)FeO_3薄膜I-V特性的影响 | 第54-55页 |
4.3.5 退火温度对(Li_(0.5)Nb_(0.5))_(0.05)Bi_(0.95)FeO_3薄膜电畴形貌的影响 | 第55-57页 |
4.4 Li~+-Nb~(5+)共掺杂影响自极化行为的机理 | 第57-58页 |
4.4.1 自极化行为机理 | 第57页 |
4.4.2 Li~+-Nb~(5+)共掺杂的作用 | 第57-58页 |
4.5 (Li_(0.5)Nb_(0.5))_xBi(1-x)FeO_3薄膜自极化行为对光学性能的影响 | 第58-63页 |
4.5.1 (Li_(0.5)Nb_(0.5))_xBi(1-x)FeO_3薄膜的禁带宽度 | 第58-62页 |
4.5.2 (Li_(0.5)Nb_(0.5))_xBi(1-x)FeO_3薄膜光照下的I-V特性 | 第62-63页 |
4.6 本章小结 | 第63-64页 |
结论 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-70页 |
致谢 | 第70页 |