| 中文摘要 | 第3-5页 |
| 英文摘要 | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-25页 |
| 1.1 课题研究背景 | 第9页 |
| 1.2 冷喷涂技术介绍 | 第9-13页 |
| 1.3 影响冷喷涂涂层质量的因素 | 第13-17页 |
| 1.3.1 涂层形成过程和粒子沉积机理 | 第13-14页 |
| 1.3.2 喷涂粒子有效沉积的条件 | 第14-15页 |
| 1.3.3 撞击参数对涂层质量的影响 | 第15-16页 |
| 1.3.4 基体温度对涂层质量的影响 | 第16-17页 |
| 1.4 影响气体流场以及喷涂颗粒加速的因素 | 第17-22页 |
| 1.4.1 喷管一维理论 | 第17-18页 |
| 1.4.2 喷管激波理论 | 第18-19页 |
| 1.4.3 喷涂气体参数的影响 | 第19-21页 |
| 1.4.4 喷管结构参数的影响 | 第21-22页 |
| 1.5 本文主要研究内容和意义 | 第22-25页 |
| 2 基础理论分析 | 第25-35页 |
| 2.1 高压冷喷涂送粉过程理论分析 | 第25-31页 |
| 2.1.1 高压冷喷涂介绍 | 第25-28页 |
| 2.1.2 高压冷喷涂送粉气流特点 | 第28-29页 |
| 2.1.3 送粉过程理论分析 | 第29-31页 |
| 2.2 数值计算理论基础 | 第31-34页 |
| 2.2.1 连续相控制方程 | 第31-32页 |
| 2.2.2 离散相模型 | 第32-34页 |
| 2.3 本章小结 | 第34-35页 |
| 3 送粉气流影响下涂层的沉积特点 | 第35-49页 |
| 3.1 模拟模型 | 第35-36页 |
| 3.2 模拟方法验证 | 第36-38页 |
| 3.3 实验准备 | 第38-40页 |
| 3.4 结果分析 | 第40-47页 |
| 3.4.1 低温送粉气流对气体流场以及粒子流加速的影响 | 第40-44页 |
| 3.4.2 低温送粉气流对沉积涂层质量均匀性的影响 | 第44-45页 |
| 3.4.3 低温送粉气流对基板附近涂层质量的影响 | 第45-47页 |
| 3.5 本章小结 | 第47-49页 |
| 4 送粉参数对粒子流撞击特性的影响 | 第49-77页 |
| 4.1 模型优化 | 第49-55页 |
| 4.1.1 影响粒子流加速的因素 | 第49-53页 |
| 4.1.2 数值模型的改进 | 第53-55页 |
| 4.2 送粉压差的影响 | 第55-60页 |
| 4.3 喷管喉部直径与送粉管直径比的影响 | 第60-64页 |
| 4.4 送粉位置的影响 | 第64-69页 |
| 4.5 送粉气流种类的影响 | 第69-75页 |
| 4.5.1 空气主气流，氦气送粉和空气送粉的比较 | 第70-72页 |
| 4.5.2 空气主气流-氦气送粉气流与氦气-空气混合加速的比较 | 第72-75页 |
| 4.6 本章小结 | 第75-77页 |
| 5 总结与展望 | 第77-79页 |
| 5.1 总结 | 第77-78页 |
| 5.2 展望 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79-81页 |
| 参考文献 | 第81-87页 |
| 附录 | 第87页 |
| A. 作者在攻读学位期间发表的论文 | 第87页 |
