| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-28页 |
| 1.1 引言 | 第12页 |
| 1.2 分子开关 | 第12-18页 |
| 1.2.1 分子开关定义及种类 | 第12-15页 |
| 1.2.2 光致变色化合物种类及应用 | 第15页 |
| 1.2.3 螺吡喃类开关分子 | 第15-18页 |
| 1.3 聚集态发光材料 | 第18-23页 |
| 1.3.1 聚集诱导淬灭现象(ACQ) | 第18-19页 |
| 1.3.2 聚集诱导发光现象(AIE) | 第19-20页 |
| 1.3.3 分子内旋转限制机理(RIR) | 第20页 |
| 1.3.4 四苯基乙烯(TPE)衍生物类材料 | 第20-23页 |
| 1.4 半菁类功能材料 | 第23-27页 |
| 1.4.1 花菁类染料 | 第24页 |
| 1.4.2 花菁类染料的四种检测机理 | 第24-25页 |
| 1.4.3 半菁类功能材料的检测机理及应用 | 第25-27页 |
| 1.5 立题依据 | 第27-28页 |
| 第二章 2.3.3-三甲基-3H-吲哚氮原子上修饰四苯基乙烯作为母体的螺吡喃刺激响应性质研究 | 第28-44页 |
| 2.1 引言 | 第28-29页 |
| 2.2 实验仪器及试剂 | 第29页 |
| 2.2.1 实验仪器 | 第29页 |
| 2.2.2 实验溶剂 | 第29页 |
| 2.3 合成过程 | 第29-32页 |
| 2.3.1 合成 2,3,3-三甲基-3H-吲哚 | 第30页 |
| 2.3.2 合成 1-(4-甲基苯基)-1,2,2-三苯基乙烯(TPE-Me) | 第30页 |
| 2.3.3 合成TPE-CH2Br | 第30-31页 |
| 2.3.4 合成TPE-N-pre | 第31页 |
| 2.3.5 合成关环TPE-N-SP1(CFTPE-N-SP1) | 第31页 |
| 2.3.6 合成关环TPE-N-SP2(CFTPE-N-SP2) | 第31-32页 |
| 2.4 溶液的配制 | 第32页 |
| 2.5 溶液中的性质 | 第32-38页 |
| 2.5.1 溶液中酸致变色性质 | 第32-35页 |
| 2.5.2 溶液中光致变色性质 | 第35-37页 |
| 2.5.3 AIE性质 | 第37-38页 |
| 2.6 固态测试 | 第38-40页 |
| 2.6.1 力致变色性质和酸碱变色性质 | 第39-40页 |
| 2.6.2 光致变色性质 | 第40页 |
| 2.7 PMMA膜中性质 | 第40-43页 |
| 2.7.1 膜的制备 | 第40-41页 |
| 2.7.2 酸碱刺激响应性质 | 第41-42页 |
| 2.7.3 光刺激响应性质 | 第42-43页 |
| 2.8 本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 2.3.3-三甲基-3H-吲哚氮原子上修饰四苯基乙烯作为母体的半菁性质的研究 | 第44-55页 |
| 3.1 引言 | 第44-47页 |
| 3.2 TPE-N-hcyn的合成 | 第47-48页 |
| 3.3 溶液中的性质 | 第48-52页 |
| 3.3.1 溶液的配制 | 第48-49页 |
| 3.3.2 pH变色性质 | 第49-51页 |
| 3.3.3 AIE性质 | 第51-52页 |
| 3.4 固体酸碱刺激性质 | 第52-53页 |
| 3.5 PMMA膜中的性质 | 第53-54页 |
| 3.5.1 TPE-N-hycn的PMMA膜制备 | 第53页 |
| 3.5.2 PMMA膜中对挥发性碱的响应 | 第53-54页 |
| 3.6 本章小结 | 第54-55页 |
| 结论 | 第55-57页 |
| 附图 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-74页 |
| 作者简介 | 第74-75页 |
| 致谢和后记 | 第75页 |
