碳四分离循环溶剂中杂质的产生机理及控制方法研究
| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 文献综述 | 第9-23页 |
| 1.1 概述 | 第9-10页 |
| 1.2 甲乙酮与N-甲酰吗啉工艺简介 | 第10-22页 |
| 1.2.1 碳四资源的综合利用 | 第11-13页 |
| 1.2.2 工艺中出现的问题 | 第13-15页 |
| 1.2.3 工艺问题的研究现状 | 第15-17页 |
| 1.2.4 现行解决方式 | 第17-22页 |
| 1.3 课题研究目的及意义 | 第22-23页 |
| 2 碳四分离循环溶剂中未知杂质的结构分析 | 第23-33页 |
| 2.1 引言 | 第23-24页 |
| 2.2 实验 | 第24-25页 |
| 2.2.1 实验仪器及原料 | 第24页 |
| 2.2.2 实验方法 | 第24-25页 |
| 2.2.3 分析方法 | 第25页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第25-31页 |
| 2.3.1 未知杂质的提纯 | 第25-27页 |
| 2.3.2 未知杂质的结构分析 | 第27-31页 |
| 2.4 小结 | 第31-33页 |
| 3 循环溶剂中N-仲丁基吗啉的产生机理 | 第33-45页 |
| 3.1 引言 | 第33-34页 |
| 3.2 实验 | 第34-37页 |
| 3.2.1 实验仪器及材料 | 第34-35页 |
| 3.2.2 实验方法 | 第35-36页 |
| 3.2.3 分析方法 | 第36-37页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第37-44页 |
| 3.3.1 模拟工业条件合成N-仲丁基吗啉 | 第37-41页 |
| 3.3.2 N-仲丁基吗啉产生机理分析 | 第41-44页 |
| 3.4 小结 | 第44-45页 |
| 4 影响N-仲丁基吗啉产生速率的研究 | 第45-59页 |
| 4.1 引言 | 第45页 |
| 4.2 实验 | 第45-50页 |
| 4.2.1 实验仪器与材料 | 第45-46页 |
| 4.2.2 实验方法 | 第46-50页 |
| 4.2.3 分析方法 | 第50页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第50-57页 |
| 4.3.1 含水量对N-仲丁基吗啉产生速率的影响 | 第50-52页 |
| 4.3.2 温度对N-仲丁基吗啉产生速率的影响 | 第52-55页 |
| 4.3.3 pH对N-仲丁基吗啉产生速率的影响 | 第55-57页 |
| 4.4 小结 | 第57-59页 |
| 5 控制循环溶剂中杂质产生速率的方法 | 第59-63页 |
| 5.1 控制溶剂的含水量 | 第59-60页 |
| 5.1.1 溶剂中游离水的去除 | 第59-60页 |
| 5.1.2 溶剂中微量水的去除 | 第60页 |
| 5.2 控制塔釜温度 | 第60-61页 |
| 5.3 控制溶剂pH | 第61页 |
| 5.4 控制杂质产生速率方案流程图 | 第61-63页 |
| 6 结论与展望 | 第63-65页 |
| 6.1 结论 | 第63页 |
| 6.2 展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第72-73页 |
