| 摘要 | 第9-11页 |
| Abstract | 第11-12页 |
| 第1章 绪论 | 第13-23页 |
| 1.1 课题研究背景和意义 | 第13-15页 |
| 1.2 疏水表面接触角的预测 | 第15-17页 |
| 1.2.1 光滑表面Young氏方程 | 第15-16页 |
| 1.2.2 粗糙表面Wenzel方程 | 第16-17页 |
| 1.2.3 粗糙表面Cassie-Baxter方程 | 第17页 |
| 1.3 疏水表面制备方法 | 第17-20页 |
| 1.3.1 化学方法 | 第18页 |
| 1.3.2 特种加工法 | 第18-19页 |
| 1.3.3 微切削法 | 第19-20页 |
| 1.4 研究目标与研究内容 | 第20-23页 |
| 第2章 基于最小吉布斯自由能的疏水表面接触角模型及其修正 | 第23-31页 |
| 2.1 能量模型基本理论 | 第23-26页 |
| 2.1.1 Wenzel方程状态下的能量模型 | 第24-25页 |
| 2.1.2 Cassie-Baxter方程状态下的能量模型 | 第25-26页 |
| 2.2 微结构气-液接触线形状修正的能量模型 | 第26-27页 |
| 2.3 接触角模型及其修正模型的理论分析 | 第27-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-31页 |
| 第3章 微结构疏水表面的设计及加工方法 | 第31-43页 |
| 3.1 微结构疏水表面形状及尺寸设计 | 第31-32页 |
| 3.2 加工试验及接触角测量仪器设备 | 第32-35页 |
| 3.3 微结构加工制备及接触角测量 | 第35-41页 |
| 3.3.1 沟槽微结构制备及接触角测量 | 第36-37页 |
| 3.3.2 方柱阵列微结构制备及接触角测量 | 第37-38页 |
| 3.3.3 斜壁沟槽微结构制备及接触角测量 | 第38-40页 |
| 3.3.4 斜壁阵列微结构制备及接触角测量 | 第40-41页 |
| 3.4 本章小结 | 第41-43页 |
| 第4章 微结构疏水表面接触角分析 | 第43-61页 |
| 4.1 沟槽微结构的接触角 | 第43-48页 |
| 4.1.1 沟槽微结构Wenzel方程和Cassie-Baxter方程 | 第43-45页 |
| 4.1.2 沟槽微结构对水滴在其表面接触角的影响规律 | 第45-47页 |
| 4.1.3 沟槽微能量模型分析 | 第47-48页 |
| 4.2 方柱阵列微结构的接触角 | 第48-53页 |
| 4.2.1 方柱阵列微结构的Wenzel方程和Cassie-Baxter方程 | 第48-49页 |
| 4.2.2 方柱阵列微结构对水滴在其表面接触角的影响规律 | 第49-51页 |
| 4.2.3 方柱阵列微结构能量模型分析 | 第51-53页 |
| 4.3 斜壁沟槽微结构的接触角 | 第53-56页 |
| 4.4 斜壁阵列微结构的接触角 | 第56-58页 |
| 4.5 毛刺对接触角的影响 | 第58-59页 |
| 4.6 本章小结 | 第59-61页 |
| 第5章 结论与展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 攻读硕士学位期间的学术研究成果 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 附件 | 第72页 |
