摘要 | 第3-4页 |
abstract | 第4-5页 |
第1章 绪论 | 第9-17页 |
1.1 研究背景 | 第9页 |
1.2 研究意义 | 第9-10页 |
1.3 研究现状 | 第10-13页 |
1.3.1 频率可重构天线研究现状 | 第11-12页 |
1.3.2 极化可重构天线研究现状 | 第12-13页 |
1.4 论文的主要内容及结构安排 | 第13-17页 |
第2章 微带天线的理论研究 | 第17-27页 |
2.1 天线的基本参数 | 第17-19页 |
2.1.1 回波损耗与11S | 第17-18页 |
2.1.2 频带宽度 | 第18页 |
2.1.3 增益 | 第18-19页 |
2.1.4 方向图 | 第19页 |
2.1.5 效率 | 第19页 |
2.2 微带天线理论分析 | 第19-24页 |
2.2.1 传输线模型分析法 | 第20-23页 |
2.2.2 保角变换法 | 第23-24页 |
2.3 微带天线结构分析 | 第24-26页 |
2.3.1 微带贴片天线 | 第25页 |
2.3.2 微带振子天线 | 第25页 |
2.3.3 微带缝隙天线 | 第25-26页 |
2.3.4 微带行波天线 | 第26页 |
2.4 本章小结 | 第26-27页 |
第3章 频率可重构微带天线设计 | 第27-33页 |
3.1 改变介质层高度 | 第27-30页 |
3.1.1 仿真验证 | 第27-29页 |
3.1.2 实物制作 | 第29-30页 |
3.1.3 测试及结果分析 | 第30页 |
3.2 改变介质材料磁导率 | 第30-32页 |
3.2.1 实物测试 | 第30-31页 |
3.2.2 测试结果分析 | 第31-32页 |
3.3 本章小结 | 第32-33页 |
第4章 基于P(VDF-Tr FE)薄膜的频率可重构微带天线设计 | 第33-55页 |
4.1 设计思路 | 第33-34页 |
4.2 P(VDF- Tr FE)薄膜 | 第34-36页 |
4.3 可调直流电压源 | 第36-37页 |
4.4 加载薄膜的频率可重构天线的建模与仿真实现 | 第37-47页 |
4.4.1 微带贴片天线的理论计算 | 第37-39页 |
4.4.2 微带贴片天线的建模与仿真 | 第39-40页 |
4.4.3 加载薄膜的贴片天线的建模与仿真 | 第40-47页 |
4.5 仿真结果分析 | 第47-48页 |
4.6 实物加工及测试结果分析 | 第48-53页 |
4.6.1 天线加工 | 第48页 |
4.6.2 端口性能测试及结果分析 | 第48-51页 |
4.6.3 远场性能测试及结果分析 | 第51-53页 |
4.7 本章小结 | 第53-55页 |
第5章 基于BST铁电薄膜的极化可重构天线设计 | 第55-63页 |
5.1 天线的极化 | 第55-56页 |
5.2 天线设计原理 | 第56-57页 |
5.3 天线模型 | 第57-58页 |
5.4 天线仿真 | 第58-61页 |
5.5 本章小结 | 第61-63页 |
第6章 总结与展望 | 第63-65页 |
6.1 主要工作与创新点 | 第63页 |
6.2 展望 | 第63-65页 |
参考文献 | 第65-71页 |
致谢 | 第71-73页 |
攻读硕士学位期间从事的科研工作及取得的成果 | 第73页 |