中文摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-8页 |
第一章 前言 | 第8-15页 |
·Ⅷ族金属催化剂 | 第8-10页 |
·铂族金属催化剂 | 第8-9页 |
·铁系催化剂 | 第9-10页 |
·双金属催化剂 | 第10-12页 |
·单层双金属的主要结构形态 | 第10页 |
·单层双金属的制备方法 | 第10-11页 |
·单层双金属的表征手段 | 第11-12页 |
·Ⅷ族双金属催化剂的理论研究 | 第12-14页 |
·本论文的主要研究内容 | 第14-15页 |
第二章 理论基础和研究方法 | 第15-22页 |
·密度泛函理论 | 第15-18页 |
·Thomas-Fermi模型 | 第15-16页 |
·Hohenberg-Kohn定理 | 第16-17页 |
·Kohn-Sham方法 | 第17-18页 |
·金属表面研究的计算模型 | 第18-20页 |
·簇模型(cluster model) | 第19页 |
·平板模型(slab model) | 第19-20页 |
·金属表面研究涉及物理量和公式 | 第20-21页 |
·VASP计算软件 | 第21-22页 |
第三章 H_2S在Ni/Pd(111)表面的吸附和解离研究 | 第22-41页 |
·引言 | 第22页 |
·计算方法和模型 | 第22-24页 |
·计算结果与讨论 | 第24-39页 |
·清洁Ni、Pd单金属和双金属表面 | 第24-28页 |
·H_2S分子在Ni、Pd单金属和双金属表面的吸附 | 第28-38页 |
·吸附构型和吸附能 | 第28-32页 |
·电荷转移分析 | 第32-33页 |
·态密度(DOS)分析 | 第33-38页 |
·H_2S分子在Ni@Pd(111)双金属表面的解离吸附过程 | 第38-39页 |
·本章小结 | 第39-41页 |
第四章 HCHO在Ni@Pt(111)和Ni@Rh(111)的吸附表面的吸附性能研究 | 第41-53页 |
·引言 | 第41-42页 |
·计算方法和模型 | 第42-43页 |
·结果与讨论 | 第43-52页 |
·自由HCHO小分子和清洁金属表面 | 第43-46页 |
·HCHO在Ni(111)、Ni@Pt(111)和Ni@Rh(111)的吸附 | 第46-52页 |
·吸附能和构型 | 第46-50页 |
·电荷转移分析 | 第50页 |
·态密度分析 | 第50-52页 |
·本章小结 | 第52-53页 |
第五章 CO和O在Ni@Pt(111)表面的吸附和共吸附性能研究 | 第53-63页 |
·引言 | 第53页 |
·计算方法和模型 | 第53-54页 |
·计算结果与讨论 | 第54-61页 |
·CO和O在各金属表面最稳定单独吸附和共吸附构型 | 第54-60页 |
·CO在Ni@Pt(111)双金属表面的氧化过程模拟 | 第60-61页 |
·本章小结 | 第61-63页 |
结论 | 第63-65页 |
参考文献 | 第65-77页 |
致谢 | 第77-78页 |
个人简历 | 第78-79页 |
在读期间已发表和录用论文 | 第79页 |
参加的科研项目 | 第79页 |