| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-13页 |
| 1 绪论 | 第13-45页 |
| ·磁记录技术概述 | 第13-17页 |
| ·磁记录的发展历程 | 第13-14页 |
| ·磁学基本概念 | 第14-16页 |
| ·硬盘驱动器及其存储原理 | 第16-17页 |
| ·传统的记录方式及遇到的问题 | 第17-23页 |
| ·水平和垂直磁记录模式 | 第17-19页 |
| ·传统磁记录介质遇到的问题 | 第19-20页 |
| ·L1_0-Fe(Co)Pt材料 | 第20-23页 |
| ·下一代磁记录技术 | 第23-37页 |
| ·交换耦合磁记录介质(exchange coupled magnetic recording media) | 第23-24页 |
| ·热辅助磁记录技术(heat assisted magnetic recording) | 第24-28页 |
| ·图形化磁记录介质(bit patterned magnetic recording media) | 第28-36页 |
| ·纳米点阵列(nanodot arrays) | 第28-32页 |
| ·纳米反点阵列(antidot arrays) | 第32-36页 |
| ·其他磁记录技术 | 第36-37页 |
| ·本论文的思路和工作安排 | 第37-38页 |
| ·参考文献 | 第38-45页 |
| 2 样品制备与表征方法 | 第45-61页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·薄膜的制备 | 第45-50页 |
| ·基片的选择和清洗 | 第45-46页 |
| ·薄膜的生长 | 第46-49页 |
| ·磁控溅射镀膜的原理 | 第46-47页 |
| ·磁控溅射镀膜的工艺参数 | 第47-48页 |
| ·磁控溅射镀膜系统 | 第48-49页 |
| ·退火处理 | 第49-50页 |
| ·图形化过程 | 第50-51页 |
| ·性能表征 | 第51-58页 |
| ·表面轮廓分析仪(台阶仪) | 第51-52页 |
| ·X射线衍射分析(XRD) | 第52-53页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第53-55页 |
| ·X射线能谱分析仪(EDS) | 第55页 |
| ·磁性测量 | 第55-57页 |
| ·紫外可见分光光度计 | 第57-58页 |
| ·参考文献 | 第58-61页 |
| 3 超薄AAO模板以及FePt纳米点阵列的制备与研究 | 第61-73页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·AAO模板的制备与超薄模板的转移过程 | 第61-68页 |
| ·实验材料与装置 | 第61-63页 |
| ·AAO模板的制备过程 | 第63-66页 |
| ·超薄模板的制备与转移 | 第66-68页 |
| ·FePt纳米点阵列的制备 | 第68-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| ·参考文献 | 第71-73页 |
| 4 FePt反点阵列以及条纹型纳米结构的制备与研究 | 第73-89页 |
| ·引言 | 第73页 |
| ·实验过程 | 第73-74页 |
| ·结果和讨论 | 第74-86页 |
| ·FePt纳米反点阵列 | 第74-80页 |
| ·FePt纳米条纹型结构 | 第80-86页 |
| ·本章小结 | 第86-87页 |
| ·参考文献 | 第87-89页 |
| 5 超薄AAO模板干法刻蚀制备CoPt反点阵列 | 第89-99页 |
| ·引言 | 第89页 |
| ·实验方法 | 第89-90页 |
| ·结果与讨论 | 第90-97页 |
| ·本章小结 | 第97页 |
| ·参考文献 | 第97-99页 |
| 6 纳米共振腔超吸收结构在热辅助磁记录中的应用 | 第99-109页 |
| ·引言 | 第99页 |
| ·实验方法 | 第99-100页 |
| ·结果与讨论 | 第100-106页 |
| ·本章小结 | 第106-107页 |
| ·参考文献 | 第107-109页 |
| 7 结论 | 第109-111页 |
| 论文创新点 | 第111-113页 |
| 致谢 | 第113-115页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第115-116页 |
