高Q值氟化钙盘腔的加工与耦合测试
| 摘要 | 第1-5页 |
| abstract | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-27页 |
| ·论文研究背景及意义 | 第10-14页 |
| ·回音壁模式微腔研究背景 | 第11-12页 |
| ·回音壁模式基本理论 | 第12-14页 |
| ·WGM微腔的应用概况 | 第14-20页 |
| ·微腔激光器 | 第15-16页 |
| ·高灵敏度微腔传感器 | 第16-17页 |
| ·光频率梳产生 | 第17-18页 |
| ·光机械传感 | 第18-19页 |
| ·腔量子电动力学 | 第19-20页 |
| ·回音壁模式晶体微腔发展现状 | 第20-21页 |
| ·回音壁模式晶体微腔的制备方法 | 第21-25页 |
| ·晶体生长的方法 | 第21-22页 |
| ·金刚石切削加工 | 第22-23页 |
| ·飞秒激光加工 | 第23-24页 |
| ·MEMS工艺加工 | 第24-25页 |
| ·论文的主要研究内容 | 第25-27页 |
| 2 氟化钙盘腔的基本理论 | 第27-36页 |
| ·引言 | 第27页 |
| ·氟化钙晶体谐振腔的特征参量 | 第27-30页 |
| ·品质因数 | 第27-28页 |
| ·自由光谱范围 | 第28-29页 |
| ·半高全宽 | 第29-30页 |
| ·精细度 | 第30页 |
| ·模式体积 | 第30页 |
| ·氟化钙晶体谐振腔的损耗机制 | 第30-35页 |
| ·材料损耗 | 第31-32页 |
| ·散射损耗 | 第32-34页 |
| ·表面损耗 | 第34页 |
| ·辐射损耗 | 第34页 |
| ·耦合损耗 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 3 氟化钙盘腔的结构设计及加工 | 第36-47页 |
| ·引言 | 第36页 |
| ·氟化钙晶体基本理论 | 第36-37页 |
| ·氟化钙盘型腔机械加工 | 第37-39页 |
| ·氟化钙盘型腔化学机械抛光 | 第39-42页 |
| ·化学机械抛光机理 | 第39-40页 |
| ·化学机械抛光过程 | 第40-42页 |
| ·氟化钙盘型腔CMP质量影响因素 | 第42-44页 |
| ·抛光垫 | 第42-43页 |
| ·抛光液 | 第43-44页 |
| ·磨料 | 第43页 |
| ·抛光液的浓度和PH值 | 第43-44页 |
| ·抛光液流量 | 第44页 |
| ·抛光压力 | 第44页 |
| ·抛光盘转速 | 第44页 |
| ·氟化钙晶体谐振腔耦合区粗糙度测试 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 4 氟化钙盘腔的性能测试 | 第47-56页 |
| ·引言 | 第47页 |
| ·微腔耦合方式 | 第47-50页 |
| ·自由空间耦合 | 第48页 |
| ·棱镜耦合 | 第48-49页 |
| ·直波导耦合 | 第49页 |
| ·角抛光光纤耦合 | 第49页 |
| ·锥形光纤耦合 | 第49-50页 |
| ·锥形光纤 | 第50-52页 |
| ·锥形光纤的制备实验 | 第50-51页 |
| ·锥形光纤耦合机理 | 第51-52页 |
| ·微腔Q值测试方法 | 第52页 |
| ·腔衰荡法 | 第52页 |
| ·半高全宽法 | 第52页 |
| ·锥形光纤与盘腔的耦合实验 | 第52-55页 |
| ·微腔Q值测试结果 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 5 总结与展望 | 第56-58页 |
| ·工作总结 | 第56页 |
| ·工作展望 | 第56-58页 |
| 参考文献 | 第58-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文及所取得的研究成果 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
