| 致谢 | 第1-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-9页 |
| 第一章 序言 | 第9-25页 |
| ·引言 | 第9-10页 |
| ·硅正离子的发展与现状 | 第10-12页 |
| ·硅正离子的合成方法 | 第12-19页 |
| ·断裂Si-H键制备硅正离子 | 第14-17页 |
| ·断裂Si-C键和Si-Si键制备硅正离子 | 第17-18页 |
| ·二硅烷和硅自由基的氧化制备硅正离子 | 第18-19页 |
| ·氧化硅烯制备硅正离子 | 第19页 |
| ·本文立题依据 | 第19-20页 |
| ·参考文献 | 第20-25页 |
| 第二章 [H_9O_4~+][HCB_(11)H_5Br_6~-]的合成及结构 | 第25-49页 |
| ·引言 | 第25-28页 |
| ·结果与讨论 | 第28-37页 |
| ·实验及谱图 | 第37-47页 |
| ·实验条件,方法及使用的仪器设备 | 第37-38页 |
| ·化合物的合成 | 第38-47页 |
| ·参考文献 | 第47-49页 |
| 第三章 含硅正的双性离子化合物 | 第49-75页 |
| ·引言 | 第49-51页 |
| ·结果与讨论 | 第51-53页 |
| ·小结 | 第53-56页 |
| ·实验及谱图 | 第56-72页 |
| ·阳离子转化 | 第56页 |
| ·碳硼烷阴离子的硅基化 | 第56-72页 |
| ·参考文献 | 第72-75页 |
| 第四章 四(三甲基硅基)硅烷的合成 | 第75-83页 |
| ·简介 | 第75-76页 |
| ·合成方法 | 第76-77页 |
| ·结果与讨论 | 第77-79页 |
| ·实验过程 | 第79-81页 |
| ·实验条件 | 第79页 |
| ·实验步骤及产物表征 | 第79-81页 |
| ·参考文献 | 第81-83页 |
| 作者简历 | 第83页 |