| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-20页 |
| ·WO_3的基本性质 | 第10-11页 |
| ·掺杂纳米WO_3基材料的研究进展 | 第11-17页 |
| ·过渡金属掺杂 | 第12-15页 |
| ·贵金属掺杂 | 第15-16页 |
| ·碱金属掺杂 | 第16-17页 |
| ·复合材料及多元掺杂 | 第17页 |
| ·本文的立题依据、研究目的及研究内容 | 第17-20页 |
| ·立题依据 | 第17-18页 |
| ·研究目的 | 第18-19页 |
| ·研究内容 | 第19-20页 |
| 2 WO_3及WO_3∶Ti纳米材料的制备 | 第20-28页 |
| ·纳米材料的制备方法 | 第20页 |
| ·WO_3纳米粉体的制备方法 | 第20-21页 |
| ·水热法 | 第20-21页 |
| ·微乳液法 | 第21页 |
| ·沉淀法 | 第21页 |
| ·WO_3纳米薄膜的制备方法 | 第21-23页 |
| ·电沉积法 | 第21-22页 |
| ·化学气相沉积法 | 第22页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第22页 |
| ·本研究的制备方法 | 第22-23页 |
| ·WO_3及WO_3:Ti纳米材料的制备 | 第23-27页 |
| ·实验仪器与设备 | 第23页 |
| ·实验用品 | 第23-24页 |
| ·实验工艺参数 | 第24-25页 |
| ·衬底的处理及清洗 | 第25页 |
| ·纳米材料及薄膜的制备 | 第25-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 3 WO_3及WO_3∶Ti纳米材料的表征与分析 | 第28-35页 |
| ·X射线衍射分析 | 第28-29页 |
| ·扫描电子显微镜分析 | 第29-33页 |
| ·透射光谱分析 | 第33-34页 |
| ·本章小结 | 第34-35页 |
| 4 WO_3及WO_3∶Ti纳米材料的电学气敏性能分析 | 第35-44页 |
| ·气敏元件的相关参数 | 第35-36页 |
| ·测试系统的建立 | 第36-37页 |
| ·测试系统的要求 | 第36页 |
| ·测试系统的气路设计 | 第36-37页 |
| ·测试装置的具体结构 | 第37页 |
| ·样品的气敏测试 | 第37-43页 |
| ·测试流程 | 第37-38页 |
| ·WO_3薄膜电阻与温度的关系 | 第38-39页 |
| ·未退火WO_3:Ti纳米晶基薄膜型元件对NO2的响应恢复曲线 | 第39-41页 |
| ·350℃退火WO_3:Ti纳米晶基薄膜型元件对NO2的响应恢复曲线及重复性测试 | 第41-43页 |
| ·气敏机理分析 | 第43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 5 WO_3及WO_3∶Ti纳米材料的光学气敏性能分析 | 第44-53页 |
| ·测试装置的具体结构 | 第44-45页 |
| ·样品的光学气敏测试流程 | 第45-46页 |
| ·退火前后样品对H2、酒精和NO2的光学气敏特性 | 第46-50页 |
| ·未退火WO_3:Ti样品对H2的光学气敏特性 | 第46-47页 |
| ·350℃退火WO_3:Ti样品对酒精的光学气敏特性 | 第47-48页 |
| ·350℃退火WO_3:Ti样品对NO2的光学气敏特性 | 第48-50页 |
| ·样品对H2、酒精、NO2气体的敏感性比较 | 第50-51页 |
| ·气敏机理 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 6 结论与展望 | 第53-55页 |
| ·结论 | 第53-54页 |
| ·展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-61页 |
| 附录A攻读硕士学位期间发表的论文 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
