GeSbSe基质光子晶体波导传输特性与制备研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 1 绪论 | 第10-19页 |
| ·光子晶体简介 | 第10-13页 |
| ·光子晶体的特性 | 第10-11页 |
| ·光子晶体的应用 | 第11-13页 |
| ·二维硫系光子晶体波导 | 第13-17页 |
| ·硫系玻璃的特征 | 第13-14页 |
| ·二维光子晶体波导 | 第14-16页 |
| ·硫系光子晶体波导的研究现状 | 第16-17页 |
| ·选题背景 | 第17-18页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第18-19页 |
| 2 光子晶体理论基础及数值分析方法 | 第19-30页 |
| ·平面波展开法 | 第19-21页 |
| ·麦克斯韦方程组 | 第19-21页 |
| ·本征方程 | 第21页 |
| ·时域有限差分法 | 第21-28页 |
| ·FDTD的Yee元胞 | 第22-23页 |
| ·Maxwell方程FDTD的差分格式 | 第23-24页 |
| ·二维光子晶体问题 | 第24-27页 |
| ·解的稳定性 | 第27-28页 |
| ·吸收边界条件 | 第28页 |
| ·其他数值分析方法 | 第28页 |
| ·本章小结 | 第28-30页 |
| 3 硫系光子晶体结构设计研究 | 第30-39页 |
| ·RSoft软件简介及使用方法 | 第30-32页 |
| ·Ge20Sb15Se65玻璃折射率 | 第32页 |
| ·大带隙硫系光子晶体波导结构设计 | 第32-38页 |
| ·硫系光子晶体结构类型 | 第33页 |
| ·硫系光子晶体晶格类型 | 第33-35页 |
| ·硫系光子晶体半径选择 | 第35-38页 |
| ·本章总结 | 第38-39页 |
| 4 硫系光子晶体弯曲波导传输特性研究 | 第39-50页 |
| ·光子晶体弯曲波导损耗特性 | 第39-40页 |
| ·光子晶体波导损耗的来源 | 第39-40页 |
| ·光子晶体弯曲波导的损耗原理 | 第40页 |
| ·光子晶体波导传输损耗的优化 | 第40-41页 |
| ·通信波段硫系光子晶体波导传输特性的研究 | 第41-44页 |
| ·中红外波段硫系光子晶体波导传输特性的研究 | 第44-49页 |
| ·60°弯曲硫系光子晶体波导传输特性的优化 | 第45-48页 |
| ·连续 60°弯曲硫系光子晶体波导传输特性的优化 | 第48-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 5 硫系光子晶体波导的制备 | 第50-63页 |
| ·硫系光子晶体波导制备简介 | 第50页 |
| ·Ge20Sb15Se65薄膜的制备 | 第50-55页 |
| ·硅片的清洗 | 第51页 |
| ·利用磁控溅射镀膜 | 第51-52页 |
| ·磁控溅射镀膜相关参数的研究 | 第52-55页 |
| ·电子束曝光刻蚀硫系光子晶体波导 | 第55-60页 |
| ·电子束曝光系统的组成 | 第55-56页 |
| ·光刻胶 | 第56-57页 |
| ·感应耦合等离子刻蚀 | 第57页 |
| ·电子束曝光+ICP刻蚀硫系光子晶体波导 | 第57-59页 |
| ·实验结果及分析 | 第59-60页 |
| ·聚焦离子束刻蚀硫系光子晶体波导 | 第60-62页 |
| ·聚焦离子束刻蚀硫系光子晶体波导 | 第60-61页 |
| ·实验结果及分析 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 6 总结 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 在校研究成果 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
