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基于4H-SiC的中子探测技术研究

摘要第1-6页
Abstract第6-9页
目录第9-13页
第一章 绪论第13-25页
   ·研究背景及意义第13-18页
   ·国内外研究现状第18-22页
     ·国外研究现状第19-21页
     ·国内研究现状第21-22页
   ·研究难点与研究思路第22-23页
   ·主要研究内容第23-25页
第二章 4H-SiC探测器的物理设计与制备技术研究第25-37页
   ·引言第25页
   ·探测器物理设计第25-29页
   ·探测器制备工艺第29-32页
   ·探测器测试与分析第32-35页
     ·金属-半导体接触理论第32-33页
     ·测试与分析第33-35页
   ·本章小结第35-37页
第三章 4H-SiC探测器电荷收集性能研究第37-58页
   ·引言第37-38页
   ·载流子在晶体中迁移过程第38-41页
     ·α粒子与4H-SiC材料的相互作用机制第38-40页
     ·载流子的迁移与探测器电信号第40-41页
   ·电荷收集效率的实验研究第41-50页
     ·测量原理与实验布局第41-45页
     ·实验结果与讨论第45-50页
   ·快中子辐照对电荷收集效率影响第50-57页
     ·实验原理与实验布局第50页
     ·实验结果与讨论第50-57页
   ·本章小结第57-58页
第四章 4H-SiC探测器致电离粒子辐射响应研究第58-79页
   ·引言第58-59页
   ·α粒子的探测性能研究第59-68页
     ·实验原理与实验布局第59-61页
     ·实验结果与讨论第61-68页
   ·γ射线的响应研究第68-78页
     ·γ射线与4H-SiC材料的相互作用机制第68-69页
     ·实验原理与实验布局第69-71页
     ·实验结果与讨论第71-78页
   ·本章小结第78-79页
第五章 4H-SiC中子探测器能谱测量技术及应用研究第79-91页
   ·引言第79-80页
   ·探测器工作原理第80-82页
   ·探测器设计与制作第82-87页
   ·探测器测试第87-90页
     ·实验原理与布局第87页
     ·实验结果与讨论第87-90页
   ·本章小结第90-91页
第六章 4H-SiC中子探测器稳态中子探测技术及应用研究第91-117页
   ·引言第91页
   ·探测器工作原理第91-94页
   ·探测器设计第94-105页
     ·中子转换层设计第95-104页
     ·4H-SiC器件设计第104-105页
   ·慢中子探测实验第105-110页
     ·实验原理与布局第105-108页
     ·实验结果与讨论第108-110页
   ·快中子探测实验第110-116页
     ·实验原理与布局第110-111页
     ·实验结果与讨论第111-116页
   ·本章小结第116-117页
第七章 4H-SiC中子探测器脉冲中子探测技术及应用研究第117-150页
   ·引言第117-118页
   ·脉冲电流型探测器工作原理与探测系统设计第118-123页
     ·物理模型与工作原理第118-121页
     ·系统设计第121-123页
   ·采用碳化硅探测器测量脉冲波形第123-135页
     ·CFBR-Ⅱ堆及其脉冲波形描述第123-124页
     ·探测器与实验布局第124-130页
     ·实验结果与讨论第130-135页
   ·脉冲波形信号影响因素研究第135-148页
     ·探测灵敏度第135-140页
     ·波形参数第140-143页
     ·抗辐射特性第143-146页
     ·探测器n/γ分辨本领第146-148页
   ·本章小结第148-150页
第八章 结论与后续研究方向第150-155页
   ·主要结论第150-153页
   ·本课题创新点第153-154页
   ·后续研究方向第154-155页
致谢第155-156页
参考文献第156-163页
附录第163-164页

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