| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| ·前言 | 第11-13页 |
| ·π-π作用简介 | 第11页 |
| ·π-π作用的作用形式 | 第11-12页 |
| ·π-π作用的重要参数 | 第12页 |
| ·π-π作用的本质 | 第12-13页 |
| ·影响π-π作用的因素 | 第13-18页 |
| ·取代基效应 | 第14-16页 |
| ·溶剂效应 | 第16页 |
| ·芳环作用面积 | 第16-17页 |
| ·其它因素 | 第17-18页 |
| ·环番中π-π作用对电子传递的影响 | 第18-19页 |
| ·立题思想 | 第19-21页 |
| 第二章 边面堆积π-π作用(C-H…π作用)的单取代基对金属钌炔配合物性质的影响 | 第21-47页 |
| ·前言 | 第21页 |
| ·实验部分 | 第21-33页 |
| ·合成路线 | 第21-22页 |
| ·实验仪器和试剂 | 第22-23页 |
| ·实验部分 | 第23-33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-46页 |
| ·化合物的合成 | 第33页 |
| ·NMR与X-ray单晶衍射结构分析 | 第33-41页 |
| ·化合物性质的表征 | 第41-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 第三章 边面堆积π-π作用(C-H…π作用)的多取代基对金属钌炔配合物性质的影响 | 第47-74页 |
| ·前言 | 第47页 |
| ·实验部分 | 第47-61页 |
| ·合成路线 | 第47-49页 |
| ·实验仪器和试剂 | 第49页 |
| ·实验部分 | 第49-61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-73页 |
| ·化合物的合成 | 第61-62页 |
| ·NMR与X-ray单晶衍射结构分析 | 第62-70页 |
| ·化合物电化学性质的研究 | 第70-73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 第四章 偏移堆积π-π作用的取代基对金属钌炔配合物性质的影响 | 第74-86页 |
| ·前言 | 第74页 |
| ·实验部分 | 第74-80页 |
| ·实验路线 | 第74-75页 |
| ·实验仪器和试剂 | 第75页 |
| ·实验部分 | 第75-80页 |
| ·结果与讨论 | 第80-85页 |
| ·化合物的合成 | 第80页 |
| ·NMR与X-ray单晶衍射结构分析 | 第80-83页 |
| ·化合物性质的表征 | 第83-85页 |
| ·本章小结 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-91页 |
| 致谢 | 第91页 |
