金纳米线阵列的制备及其光学性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| ·引言 | 第10-11页 |
| ·纳米材料简介 | 第11-12页 |
| ·一维纳米材料应用研究现状 | 第12-14页 |
| ·一维纳米线阵列制备的方法 | 第14-18页 |
| ·模板法 | 第15-17页 |
| ·水热法 | 第17-18页 |
| ·本课题研究内容和研究目的 | 第18-19页 |
| 第二章 化学试剂和实验方法 | 第19-22页 |
| ·实验试剂和实验设备 | 第19-20页 |
| ·实验方法 | 第20-21页 |
| ·氧化铝模板的制备 | 第20页 |
| ·电化学沉积纳米线阵列 | 第20-21页 |
| ·样品的表征和分析 | 第21-22页 |
| ·样品形貌和组分表征 | 第21页 |
| ·样品的光学性能表征 | 第21-22页 |
| 第三章 多孔氧化铝模板的制备 | 第22-32页 |
| ·氧化铝模板的研究现状 | 第22-23页 |
| ·AAO模板的结构与特点 | 第23-25页 |
| ·AAO模板生成的机理 | 第25-26页 |
| ·AAO模板的制备 | 第26-29页 |
| ·实验设备 | 第26-27页 |
| ·实验步骤 | 第27-29页 |
| ·结果与表征 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第四章 金纳米线阵列的制备 | 第32-45页 |
| ·引言 | 第32页 |
| ·金纳米线阵列的制备 | 第32-33页 |
| ·Au纳米线阵列的形貌结果表征 | 第33-45页 |
| ·沉积电压对金纳米阵列结构的影响 | 第34-41页 |
| ·电解液的pH值对金纳米阵列结构的影响 | 第41-45页 |
| 第五章 结论与展望 | 第45-47页 |
| ·结论 | 第45-46页 |
| ·展望 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-53页 |
| 附录 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |