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金纳米线阵列的制备及其光学性能研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第一章 绪论第10-19页
   ·引言第10-11页
   ·纳米材料简介第11-12页
   ·一维纳米材料应用研究现状第12-14页
   ·一维纳米线阵列制备的方法第14-18页
     ·模板法第15-17页
     ·水热法第17-18页
   ·本课题研究内容和研究目的第18-19页
第二章 化学试剂和实验方法第19-22页
   ·实验试剂和实验设备第19-20页
   ·实验方法第20-21页
     ·氧化铝模板的制备第20页
     ·电化学沉积纳米线阵列第20-21页
   ·样品的表征和分析第21-22页
     ·样品形貌和组分表征第21页
     ·样品的光学性能表征第21-22页
第三章 多孔氧化铝模板的制备第22-32页
   ·氧化铝模板的研究现状第22-23页
   ·AAO模板的结构与特点第23-25页
   ·AAO模板生成的机理第25-26页
   ·AAO模板的制备第26-29页
     ·实验设备第26-27页
     ·实验步骤第27-29页
   ·结果与表征第29-31页
   ·本章小结第31-32页
第四章 金纳米线阵列的制备第32-45页
   ·引言第32页
   ·金纳米线阵列的制备第32-33页
   ·Au纳米线阵列的形貌结果表征第33-45页
     ·沉积电压对金纳米阵列结构的影响第34-41页
     ·电解液的pH值对金纳米阵列结构的影响第41-45页
第五章 结论与展望第45-47页
   ·结论第45-46页
   ·展望第46-47页
参考文献第47-53页
附录第53-54页
致谢第54页

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