学位论文数据集 | 第1-5页 |
摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-15页 |
第一章 绪论 | 第15-27页 |
·消毒副产物简介 | 第15-19页 |
·消毒副产物危害及限制标准 | 第15-16页 |
·消毒副产物的生成机理 | 第16-18页 |
·消毒副产物生成的影响因素 | 第18-19页 |
·消毒副产物的分析方法 | 第19-21页 |
·卤乙酸的分析方法 | 第20页 |
·三卤甲烷的分析方法 | 第20页 |
·NDMA的分析方法 | 第20-21页 |
·液相色谱串联质谱联用仪在消毒副产物分析上的运用进展 | 第21-26页 |
·液质质联用技术的原理和发展 | 第21-24页 |
·液质质联用在消毒副产物分析中的具体运用 | 第24-26页 |
·研究的意义及主要内容 | 第26-27页 |
·研究意义 | 第26页 |
·研究的主要内容 | 第26-27页 |
第二章 LC-MS/MS在卤乙酸分析中的应用 | 第27-45页 |
·实验仪器、材料与样品预处理 | 第27-28页 |
·实验仪器 | 第27页 |
·实验材料 | 第27-28页 |
·样品预处理 | 第28页 |
·色谱和质谱条件 | 第28页 |
·色谱条件 | 第28页 |
·质谱条件 | 第28页 |
·卤乙酸的LC-MS/MS分析方法 | 第28-41页 |
·卤乙酸的特征质荷比 | 第28-39页 |
·卤乙酸的标准曲线 | 第39-40页 |
·卤乙酸的检测限及回收率 | 第40-41页 |
·液质质联用与GC-ECD的比较 | 第41-43页 |
·检测限与回收率的比较 | 第42页 |
·实际水样中的比较 | 第42-43页 |
·本章小结 | 第43-45页 |
第三章 前体离子扫描及臭氧工艺中溴代消毒副产物生成势研究 | 第45-57页 |
·试验仪器与材料 | 第45-46页 |
·试验仪器 | 第45页 |
·实验材料 | 第45-46页 |
·质谱条件及质谱参数优化 | 第46-48页 |
·碎裂电压的优化 | 第46-47页 |
·碰撞能的优化 | 第47-48页 |
·预处理方法的优化 | 第48-49页 |
·臭氧工艺中溴代消毒副产物生成势研究 | 第49-56页 |
·三卤甲烷的浓度变化规律 | 第49-52页 |
·卤乙酸的浓度变化规律 | 第52-54页 |
·溴代消毒副产物的变化规律 | 第54-56页 |
·本章小结 | 第56-57页 |
第四章 LC-MS/MS在MX分析中的应用 | 第57-69页 |
·试验仪器、材料与样品预处理 | 第57-58页 |
·试验仪器 | 第57页 |
·试验材料 | 第57-58页 |
·样品预处理 | 第58页 |
·色谱条件及优化 | 第58-59页 |
·色谱条件 | 第58-59页 |
·色谱条件的优化 | 第59页 |
·质谱条件及质谱参数优化 | 第59-62页 |
·MX的特征质荷比 | 第59-61页 |
·碎裂电压的优化 | 第61页 |
·碰撞能参数的优化 | 第61-62页 |
·其他参数的优化 | 第62页 |
·标线及萃取效率 | 第62-64页 |
·MX溶于有机溶剂的标线 | 第63页 |
·MX溶于水中的标线 | 第63-64页 |
·配水试验中MX的测定 | 第64-67页 |
·本章小结 | 第67-69页 |
第五章 结论与建议 | 第69-71页 |
·结论 | 第69页 |
·建议 | 第69-71页 |
参考文献 | 第71-75页 |
致谢 | 第75-77页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第77-79页 |
作者和导师简介 | 第79-80页 |
附录 | 第80-81页 |