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超薄Bi(111)薄膜表面电子结构、声子结构及电—声子相互作用研究

目录第1-5页
摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 引言第7-16页
   ·拓扑绝缘材料概述第7-10页
     ·拓扑的概念第7-8页
     ·拓扑绝缘体的特点第8-9页
     ·拓扑绝缘材料的研究进展第9-10页
   ·半金属材料铋的性质和特点第10-12页
     ·元素铋的基本性质第10-11页
     ·铋的几何结构第11页
     ·铋的半金属性第11-12页
     ·铋材料的应用第12页
   ·铋薄膜材料的研究现状第12-14页
   ·本文的研究目的和主要内容第14-16页
第二章 基本理论及计算方法第16-26页
   ·第一性原理计算第16页
   ·密度泛函理论第16-21页
     ·Hohenberg-Kohn定理第17-18页
     ·Kohn-Sham方程第18-20页
     ·交换关联势第20-21页
   ·密度泛函微扰理论第21-22页
   ·自旋轨道耦合第22-26页
     ·从经典唯象出发探讨自旋轨道耦合第22-24页
     ·从狄拉克方程出发探讨自旋轨道耦合第24-26页
第三章 Bi薄膜材料的第一性原理研究第26-46页
   ·计算参数的选择第26页
   ·几何结构第26-29页
   ·电子结构第29-34页
     ·铋体内电子结构第29-31页
     ·铋薄膜电子结构第31-34页
   ·晶格动力学性质第34-43页
     ·Γ点振动模研究第34-38页
     ·声子色散谱第38-41页
     ·声子态密度第41-43页
   ·电-声子耦合第43-44页
   ·总结与展望第44-46页
参考文献第46-50页
硕士期间发表和完成论文情况第50-51页
致谢第51页

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