| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-28页 |
| ·引言 | 第10-12页 |
| ·纳米图案化研究现状 | 第12-23页 |
| ·探针直写技术 | 第13-14页 |
| ·光刻技术 | 第14-17页 |
| ·纳米压印技术(NIL) | 第17-21页 |
| ·其他技术 | 第21-23页 |
| ·选题意义及主要研究内容 | 第23-28页 |
| ·选题意义 | 第23-24页 |
| ·目前存在的主要问题 | 第23页 |
| ·拟解决问题 | 第23-24页 |
| ·主要研究内容 | 第24-28页 |
| 第二章 结合纳米压印和溶胶凝胶技术构筑图案化ZnO 薄膜 | 第28-42页 |
| ·引言 | 第28-29页 |
| ·实验部分 | 第29-35页 |
| ·压印模板的制备 | 第29-32页 |
| ·阻挡层的选择与制备 | 第32-33页 |
| ·热压印过程 | 第33-35页 |
| ·结果与讨论 | 第35-38页 |
| ·本章小结 | 第38-42页 |
| 第三章 以PS 为模板利用热压印技术制备 ZnO 纳米阵列结构 | 第42-58页 |
| ·引言 | 第42页 |
| ·实验部分 | 第42-44页 |
| ·利用膜层转移法制备PS 胶晶模板 | 第43页 |
| ·聚二甲基硅氧烷(PDMS)的制备和PS 负型结构的复制过程 | 第43-44页 |
| ·氧化锌溶胶的制备 | 第44页 |
| ·热压印过程及后处理 | 第44页 |
| ·样品的测试表征 | 第44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-53页 |
| ·PS 单层模板组装机理分析 | 第44-45页 |
| ·PS 胶晶阵列的表面形貌与光学分析 | 第45-47页 |
| ·利用PDMS 复制PS 阵列后的表面形貌与分析 | 第47-49页 |
| ·利用热压印技术构筑图案化ZnO 阵列 | 第49-53页 |
| ·本章小结 | 第53-58页 |
| 第四章 利用图案化种子层和低温水热法制备多种图案化纳米线阵列结构 | 第58-71页 |
| ·引言 | 第58-59页 |
| ·实验部分 | 第59-61页 |
| ·实验结果与讨论 | 第61-70页 |
| ·衬底温度对种子层的影响 | 第61-63页 |
| ·种子层对ZnO 纳米棒生长的影响 | 第63-65页 |
| ·制备图案化氧化锌纳米棒阵列 | 第65-68页 |
| ·以PS 为模板制备孔状氧化锌薄膜 | 第68-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文目录 | 第74-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
