| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 目录 | 第9-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-26页 |
| ·概述 | 第13页 |
| ·桥联聚倍半硅氧烷 | 第13-20页 |
| ·桥联聚倍半硅氧烷的结构特性 | 第13-14页 |
| ·桥联聚倍半硅氧烷的合成方法及条件 | 第14-17页 |
| ·合成方法 | 第14-15页 |
| ·合成条件 | 第15-17页 |
| ·其他改进的新型工艺 | 第17-18页 |
| ·桥联单体的合成 | 第18-19页 |
| ·表面活性剂模板法合成 BPS | 第19页 |
| ·金属配合物法合成桥联聚倍半硅氧烷 | 第19-20页 |
| ·桥联聚倍半硅氧烷在吸附领域中的应用 | 第20-24页 |
| ·在吸附金属离子方面的应用 | 第20-22页 |
| ·在吸附有机物方面的应用 | 第22-24页 |
| ·论文的提出及研究内容 | 第24-26页 |
| ·论文的提出 | 第24页 |
| ·论文的研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 多胺桥联单体自缩聚合成 BPS 及其吸附性能 | 第26-45页 |
| ·引言 | 第26页 |
| ·实验部分 | 第26-29页 |
| ·主要试剂及仪器 | 第26-27页 |
| ·桥联聚倍半硅氧烷的合成 | 第27-28页 |
| ·溶胶-凝胶法合成桥联聚倍半硅氧烷材料的合成路线 | 第27-28页 |
| ·桥联单体的合成 | 第28页 |
| ·分别以乙二胺和二乙烯三胺为桥联基团的桥联聚倍半硅氧烷的合成 | 第28页 |
| ·加入致孔剂的桥联聚倍半硅氧烷的合成 | 第28页 |
| ·BPS 材料的表征 | 第28页 |
| ·吸附性能测定 | 第28-29页 |
| ·结果与讨论 | 第29-43页 |
| ·桥联聚倍半硅氧烷的表征 | 第29-34页 |
| ·X-射线衍射分析 | 第29页 |
| ·FT-IR 分析 | 第29-30页 |
| ·元素分析 | 第30页 |
| ·扫描电镜分析 | 第30-31页 |
| ·孔径分析 | 第31-33页 |
| ·热重分析 | 第33-34页 |
| ·吸附性能研究 | 第34-43页 |
| ·饱和吸附量的测定 | 第34页 |
| ·吸附动力学 | 第34-39页 |
| ·等温吸附 | 第39-42页 |
| ·热力学参数 | 第42-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第三章 二乙烯三胺桥联聚倍半硅氧烷系列材料的合成及表征 | 第45-61页 |
| ·引言 | 第45页 |
| ·实验部分 | 第45-48页 |
| ·主要试剂及仪器 | 第45-46页 |
| ·二乙烯三胺桥联聚倍半硅氧烷系列材料的合成 | 第46-48页 |
| ·二乙烯三胺桥联聚倍半硅氧烷系列材料的合成原理 | 第46-47页 |
| ·DETA-BPS-T-X（X 为 2、4、6、10、20）的制备 | 第47页 |
| ·DETA-BPS-T/C-X（X 为 2、4、6、10、20）的制备 | 第47-48页 |
| ·二乙烯三胺桥联聚倍半硅氧烷系列材料的表征 | 第48页 |
| ·吸附性能初步测定 | 第48页 |
| ·静态饱和吸附量的测定 | 第48页 |
| ·吸附材料的解吸、再生实验 | 第48页 |
| ·结果与讨论 | 第48-59页 |
| ·二乙烯三胺桥联聚倍半硅氧烷系列材料的表征 | 第48-57页 |
| ·X-射线衍射分析 | 第48-49页 |
| ·FT-IR 分析 | 第49-51页 |
| ·元素分析 | 第51页 |
| ·扫描电镜分析 | 第51-53页 |
| ·孔径分析 | 第53-56页 |
| ·热重分析 | 第56-57页 |
| ·吸附性能研究 | 第57-59页 |
| ·静态饱和吸附量的测定 | 第57-58页 |
| ·吸附材料的解吸与再生性能 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第四章 Cu(Ⅱ)印迹多胺桥联聚倍半硅氧烷的合成及吸附性能研究 | 第61-76页 |
| ·引言 | 第61页 |
| ·Cu(II)印迹桥联聚倍半硅氧烷的合成 | 第61-66页 |
| ·主要试剂及仪器 | 第61-62页 |
| ·印迹材料的合成 | 第62-66页 |
| ·金属离子印迹致孔法合成桥联聚倍半硅氧烷原理 | 第62-63页 |
| ·EDA-BPS-Cu 的合成 | 第63页 |
| ·EDA-BPS-T/A/C-Cu 的合成 | 第63页 |
| ·EDA-BPS-T/C-Cu 的合成 | 第63-64页 |
| ·DETA-BPS-Cu 的合成 | 第64页 |
| ·DETA-BPS-T/A/C-Cu 的合成 | 第64-65页 |
| ·DETA-BPS-T/C-Cu 的合成 | 第65页 |
| ·DETA-BPS-T-10-Cu 的合成 | 第65页 |
| ·DETA-BPS-T/C-10-Cu 的合成 | 第65-66页 |
| ·吸附性能初步测定 | 第66页 |
| ·结果与讨论 | 第66-74页 |
| ·BPS 的表征 | 第66-70页 |
| ·XRD 分析 | 第66-67页 |
| ·FT-IR 分析 | 第67-68页 |
| ·元素分析 | 第68-69页 |
| ·扫描电镜分析 | 第69-70页 |
| ·吸附性能的初步研究 | 第70-74页 |
| ·印迹材料对 Cu(II)的静态饱和吸附量的测定 | 第70-71页 |
| ·印迹材料的竞争吸附 | 第71-74页 |
| ·本章小结 | 第74-76页 |
| 第五章 结论 | 第76-77页 |
| 参考文献 | 第77-85页 |
| 致谢 | 第85-86页 |
| 攻读学位期间所取得的科研成果 | 第86页 |
