| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-33页 |
| ·纳米压印技术 | 第11-18页 |
| ·热压纳米压印技术 | 第12-13页 |
| ·紫外光固化纳米压印技术 | 第13-15页 |
| ·步进闪光压印技术 | 第15-18页 |
| ·复合模板纳米软压印技术 | 第18-24页 |
| ·复合模板紫外光固化纳米压印技术工艺流程 | 第18-19页 |
| ·复合模板的光学透过性 | 第19-20页 |
| ·利用复合模板进行紫外光固化纳米压印制备高保真度纳米图案 | 第20-22页 |
| ·复合模板适用于曲面压印的高弯曲性能及曲面压印 | 第22-24页 |
| ·压印胶材料涂覆工艺 | 第24-30页 |
| ·旋转涂膜 | 第24-26页 |
| ·喷雾涂膜 | 第26-27页 |
| ·浸渍涂膜 | 第27-28页 |
| ·分配式涂膜 | 第28-30页 |
| ·现有涂膜方式在曲面上的应用 | 第30页 |
| ·本论文的研究内容和创新之处 | 第30-33页 |
| ·本论文的研究内容 | 第31-32页 |
| ·本论文的创新之处 | 第32-33页 |
| 第二章 基于复合模板的双转移紫外光固化纳米压印技术 | 第33-51页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·复合模板的结构与制备 | 第33-36页 |
| ·复合模板的结构 | 第33-34页 |
| ·复合模板的制备 | 第34-36页 |
| ·复合模板的防粘处理 | 第36页 |
| ·基于复合模板的双转移紫外光固化纳米压印技术 | 第36-40页 |
| ·双转移紫外光固化纳米压印技术工艺流程 | 第36-37页 |
| ·用双转移紫外光固化纳米压印技术在平面衬底上构造纳米图案 | 第37-39页 |
| ·双转移紫外光固化纳米压印技术在平面衬底上构造纳米图案的宏观均匀性 | 第39-40页 |
| ·双转移紫外光固化纳米压印过程中固化胶转移的研究 | 第40-48页 |
| ·双转移过程中无结构复合模板表面紫外光固化胶形貌的研究 | 第40-44页 |
| ·双转移过程中带有纳米结构复合模板表面紫外光固化胶形貌的研究 | 第44-45页 |
| ·双转移过程中转移紫外光固化胶量的测定 | 第45-48页 |
| ·双转移紫外光固化纳米压印过程中残余层厚度的控制 | 第48-50页 |
| ·双转移紫外光固化纳米压印过程中残余层厚度的计算 | 第48-49页 |
| ·双转移紫外光固化纳米压印过程中残余层厚度的控制 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第三章 利用双转移紫外光固化纳米压印技术进行非平面衬底压印及其应用 | 第51-63页 |
| ·引言 | 第51页 |
| ·利用双转移紫外光固化纳米压印技术在10微米周期点阵衬底表面制备纳米图案 | 第51-54页 |
| ·在10微米周期点阵表面制备完整纳米结构图案 | 第51-53页 |
| ·在10微米周期点阵表面选择性制备纳米结构图案 | 第53-54页 |
| ·利用双转移紫外光固化纳米压印技术制备表面形貌光纤布拉格光栅 | 第54-61页 |
| ·表面形貌光纤布拉格光栅 | 第54-55页 |
| ·制备直径10微米以下的普通单模光纤 | 第55-56页 |
| ·用双转移紫外光固化纳米压印技术在直径10微米以下光纤表面制备表面形貌光栅布拉格光栅 | 第56-60页 |
| ·表面形貌光纤布拉格光栅的性能测试 | 第60-61页 |
| ·本章小结 | 第61-63页 |
| 第四章 总结与展望 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-71页 |
| 待出版的论文 | 第71页 |
| 已申请的专利 | 第71-72页 |
| 致谢 | 第72-73页 |
