| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-16页 |
| ·研究背景 | 第10-11页 |
| ·氢敏材料的研究现状 | 第11-12页 |
| ·氢敏材料TiO_2 | 第12-15页 |
| ·TiO_2 | 第12-13页 |
| ·TiO_2纳米管阵列 | 第13-14页 |
| ·TiO_2纳米管阵列氢敏性质的研究进展 | 第14页 |
| ·TiO_2纳米管阵列氢敏性质的研究前景 | 第14-15页 |
| ·本文的研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 研究内容和分析方法 | 第16-21页 |
| ·研究内容及技术路线 | 第16页 |
| ·阳极氧化和磁控溅射的原理及装置 | 第16-19页 |
| ·样品的主要表征手段 | 第19-21页 |
| ·X射线衍射方法(XRD-X-ray diffraction) | 第19页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM-Scanning electron microscope) | 第19-20页 |
| ·透射电子显微镜(TEM-Transmission electron microscope) | 第20-21页 |
| 第三章 TiO_2纳米管阵列、TiO_2纳米多孔膜和薄膜的制备及表征 | 第21-30页 |
| ·TiO_2纳米管阵列的制备及表征 | 第21-25页 |
| ·电化学阳极氧化制备TiO_2纳米管阵列 | 第21页 |
| ·TiO_2纳米管阵列的生长机理 | 第21-23页 |
| ·TiO_2纳米管阵列的表征 | 第23-24页 |
| ·阳极氧化电压对TiO_2纳米管阵列孔径的影响 | 第24-25页 |
| ·TiO_2纳米多孔膜的制备及表征 | 第25-28页 |
| ·ITO上Ti薄膜的制备 | 第25-26页 |
| ·TiO_2纳米多孔膜的制备及表征 | 第26-28页 |
| ·TiO_2薄膜的制备及表征 | 第28-29页 |
| ·TiO_2薄膜的制备 | 第28页 |
| ·TiO_2薄膜的表征 | 第28-29页 |
| ·样品表面Pt电极的制备 | 第29-30页 |
| 第四章 氢敏性能的测试与机理研究 | 第30-45页 |
| ·测试装置与测试步骤 | 第30-31页 |
| ·TiO_2纳米管阵列室温氢敏特性研究 | 第31-37页 |
| ·室温不同浓度氢气的充放响应 | 第31-33页 |
| ·TiO_2纳米管阵列氢敏灵敏度的研究 | 第33页 |
| ·TiO_2纳米管阵列响应和恢复时间的研究 | 第33-34页 |
| ·TiO_2纳米管阵列室温无氧环境的氢敏测试 | 第34-35页 |
| ·孔径对TiO_2纳米管阵列室温氢敏性能的影响 | 第35页 |
| ·管长对TiO_2纳米管阵列室温氢敏性能的影响 | 第35-36页 |
| ·TiO_2纳米管阵列气敏选择性研究 | 第36-37页 |
| ·TiO_2纳米管阵列稳定性测试 | 第37页 |
| ·TiO_2纳米多孔膜的氢敏特性 | 第37-38页 |
| ·TiO_2薄膜的氢敏特性 | 第38-39页 |
| ·TiO_2薄膜室温氢敏特性 | 第38-39页 |
| ·TiO_2薄膜的厚度对氢敏性能的影响 | 第39页 |
| ·TiO_2纳米管阵列、多孔膜和薄膜的氢敏性能对比 | 第39-40页 |
| ·TiO_2纳米管阵列氢敏机理的研究 | 第40-45页 |
| ·吸附机理 | 第40-41页 |
| ·肖特基势垒变化的研究 | 第41-45页 |
| 第五章 总结与展望 | 第45-47页 |
| ·全文总结 | 第45-46页 |
| ·研究展望 | 第46-47页 |
| 参考文献 | 第47-52页 |
| 附录 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53页 |
