| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 目录 | 第7-9页 |
| 图表目录 | 第9-11页 |
| 1 绪论 | 第11-18页 |
| ·课题研究意义与背景 | 第11-12页 |
| ·多波段兼容隐身的研究现状 | 第12-13页 |
| ·超薄Ag膜及D/M/D多层膜的研究现状 | 第13-16页 |
| ·超薄Ag膜的研究现状 | 第13-15页 |
| ·D/M/D多层膜的研究现状 | 第15-16页 |
| ·课题主要研究内容 | 第16-18页 |
| 2 多波段兼容隐身膜系结构的设计 | 第18-28页 |
| ·可见及红外兼容隐身膜系结构设计 | 第18-22页 |
| ·膜系的确定 | 第18-19页 |
| ·膜系的优化设计 | 第19-20页 |
| ·结果与分析 | 第20-22页 |
| ·激光1.06μm及红外兼容隐身膜系结构设计 | 第22-26页 |
| ·法布里—珀罗(F-P)腔简介 | 第22页 |
| ·非对称F-P腔辐射特性 | 第22-24页 |
| ·膜系的优化设计 | 第24页 |
| ·结果与分析 | 第24-26页 |
| ·激光1.06μm、10.6μm及红外兼容隐身膜系结构设计 | 第26-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 3 磁控溅射系统以及薄膜性能表征方法介绍 | 第28-38页 |
| ·磁控溅射系统介绍 | 第28-30页 |
| ·磁控溅射的原理 | 第28页 |
| ·磁控溅射的特点 | 第28-29页 |
| ·实验系统介绍 | 第29-30页 |
| ·基片的清洁处理 | 第30页 |
| ·溅射膜厚的控制方法 | 第30-31页 |
| ·薄膜性能的表征方法 | 第31-32页 |
| ·薄膜的光谱测量 | 第31-32页 |
| ·薄膜的表面形貌和晶体结构分析 | 第32页 |
| ·薄膜光学常数的测量方法 | 第32-37页 |
| ·透射率包络线法 | 第33-35页 |
| ·椭圆偏振法 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 4 磁控溅射沉积ZnS薄膜和超薄Ag膜的特性研究 | 第38-49页 |
| ·ZnS薄膜的光学常数和晶体结构 | 第38-40页 |
| ·ZnS薄膜的光学常数 | 第38-39页 |
| ·ZnS薄膜的晶体结构 | 第39-40页 |
| ·超薄Ag膜的表面形貌 | 第40-44页 |
| ·超薄Ag膜的生长过程 | 第40-41页 |
| ·基片温度对超薄Ag膜表面形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·溅射速率对超薄Ag膜表面形貌的影响 | 第42-44页 |
| ·超薄Ag膜的光学性质 | 第44-47页 |
| ·超薄Ag膜的光学常数 | 第44-46页 |
| ·不同厚度超薄Ag膜的光谱特性 | 第46-47页 |
| ·超薄Ag膜的晶体结构 | 第47-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 5 多波段兼容隐身膜系结构的制备、特性及其应用研究 | 第49-62页 |
| ·可见及红外兼容隐身膜系结构的制备及其特性研究 | 第49-55页 |
| ·ZnS/Ag/ZnS多层膜的制备和光谱特性 | 第49-50页 |
| ·ZnS/Ag/ZnS多层膜各层厚度对其光谱特性的影响 | 第50-54页 |
| ·ZnS/Ag/ZnS/Ag/ZnS多层膜的制备和光谱特性 | 第54-55页 |
| ·激光1.06μm及红外兼容隐身膜系结构的制备及其特性研究 | 第55-57页 |
| ·多波段兼容隐身膜系结构的应用研究 | 第57-60页 |
| ·柔性基底的选择 | 第58页 |
| ·在柔性基底上制备多波段兼容隐身膜系结构 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60-62页 |
| 6 总结与展望 | 第62-64页 |
| ·总结 | 第62-63页 |
| ·展望 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-68页 |
