| 摘要 | 第1-8页 |
| ABSTRACT | 第8-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-32页 |
| ·重金属污染的危害及其检测的意义 | 第13-16页 |
| ·重金属污染及危害 | 第13-15页 |
| ·重金属污染的检测方法 | 第15-16页 |
| ·分析电化学 | 第16-23页 |
| ·分析电化学基本理论 | 第17页 |
| ·溶出伏安法 | 第17-19页 |
| ·差分脉冲伏安法 | 第19-20页 |
| ·仪器和电极 | 第20-23页 |
| ·微电极 | 第23-24页 |
| ·微型电化学传感器检测重金属 | 第24-26页 |
| ·本文主要研究内容及意义 | 第26-28页 |
| 参考文献 | 第28-32页 |
| 第二章 Au/SiNWs阵列的制备研究 | 第32-41页 |
| ·硅纳米材料的基本特性 | 第32-36页 |
| ·纳米材料 | 第32-33页 |
| ·硅材料 | 第33-36页 |
| ·硅表面金属功能薄膜制备的研究现状 | 第36-38页 |
| ·硅表面的金属沉积 | 第36-37页 |
| ·氧化还原电势 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 参考文献 | 第39-41页 |
| 第三章 金属修饰硅纳米线阵列的制备与表征 | 第41-53页 |
| ·SiNWs阵列的制备 | 第41-43页 |
| ·化学试剂 | 第41页 |
| ·SiNWs阵列电极制备方法 | 第41-42页 |
| ·硅纳米线生长机理 | 第42-43页 |
| ·Au/SiNWs阵列的制备 | 第43-44页 |
| ·SiNWs表面浸入沉积纳米金层 | 第44页 |
| ·SiNWs阵列电极的表征 | 第44-50页 |
| ·SiNWs阵列的SEM表征 | 第45页 |
| ·SiNWs阵列的XRD和XRF表征 | 第45-46页 |
| ·Au/SiNWs阵列的SEM表征 | 第46-49页 |
| ·Au/SiNWs阵列的XRD表征 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-53页 |
| 第四章 Au/SiNWs阵列电极重金属检测的研究 | 第53-68页 |
| ·痕量重金属镉Cd~(2+)、铅Pb~(2+)、铜Cu~(2+)的测定 | 第53-54页 |
| ·仪器与试剂 | 第53页 |
| ·电极处理 | 第53-54页 |
| ·实验原理和方法 | 第54页 |
| ·结果和讨论 | 第54-66页 |
| ·基于循环伏安技术的测试 | 第54-57页 |
| ·电解质溶液和pH值的影响 | 第57-58页 |
| ·富集参数的影响 | 第58-59页 |
| ·线性范围,线性关系和检测极限 | 第59-63页 |
| ·抗干扰性测试和重复性实验 | 第63-64页 |
| ·回收试验及天然水样品的检测 | 第64-65页 |
| ·同类电极性能比较 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-68页 |
| 第五章 总结与展望 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 硕士期间发表论文和专利 | 第71页 |