| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 1 绪论 | 第9-20页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·硬质薄膜简介 | 第9-10页 |
| ·硬质薄膜的定义及分类 | 第9页 |
| ·硬质薄膜的发展 | 第9-10页 |
| ·Ti-N系和Cr-N系氮化物硬质薄膜 | 第10-14页 |
| ·Ti-N系硬质薄膜的结构和性质 | 第10-11页 |
| ·Cr-N系硬质薄膜的结构和性质 | 第11页 |
| ·Ti-N系和Cr-N系硬质薄膜的应用 | 第11-12页 |
| ·Ti-N系和Cr-N系硬质薄膜的发展 | 第12-13页 |
| ·Ti-N系和Cr-N系硬质薄膜的制备方法 | 第13-14页 |
| ·反应磁控溅射 | 第14-16页 |
| ·磁控溅射 | 第14页 |
| ·反应磁控溅射简介 | 第14-15页 |
| ·反应磁控溅射面临的问题 | 第15-16页 |
| ·反应溅射过程的控制方法 | 第16-18页 |
| ·直接质流控制法 | 第16页 |
| ·靶电压监控法 | 第16-17页 |
| ·等离子体发射光谱监控法(PEM) | 第17-18页 |
| ·课题的研究目的及意义 | 第18-20页 |
| 2 实验设备及测试方法 | 第20-29页 |
| ·实验材料及镀膜前预处理 | 第20页 |
| ·薄膜的制备 | 第20-23页 |
| ·薄膜沉积设备简介 | 第20页 |
| ·PEM反馈控制的实现 | 第20-21页 |
| ·PEM相对辐射强度的选择与设定 | 第21页 |
| ·薄膜沉积工艺 | 第21-23页 |
| ·测试方法 | 第23-29页 |
| ·薄膜元素成分、物相和精细结构分析 | 第23页 |
| ·薄膜的微观结构分析 | 第23-24页 |
| ·薄膜显微硬度检测和膜基结合性能的评价 | 第24-25页 |
| ·摩擦学性能的检测 | 第25-29页 |
| 3 实验结果与讨论 | 第29-68页 |
| ·反应溅射参数对TiN_x薄膜组织、成分和性能的影响 | 第29-47页 |
| ·PEM特征单色辐射相对强度对TiN_x薄膜组织、成分和性能的影响 | 第29-39页 |
| ·基片负偏压对TiN_x薄膜组织、成分和性能的影响 | 第39-47页 |
| ·小结 | 第47页 |
| ·反应溅射参数对CrN_x薄膜组织、成分和性能的影响 | 第47-64页 |
| ·PEM特征单色辐射相对强度对CrN_x薄膜组织、成分和性能的影响 | 第47-57页 |
| ·基片负偏压对CrN_x薄膜微观形貌、成分和性能的影响 | 第57-64页 |
| ·小结 | 第64页 |
| ·分析与讨论 | 第64-68页 |
| 4 结论 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
