摘要 | 第1-8页 |
ABSTRACT | 第8-12页 |
目录 | 第12-14页 |
第一章 绪论 | 第14-52页 |
·石墨烯的电子结构 | 第14-20页 |
·石墨烯的制备方法 | 第20-31页 |
·石墨烯的表征 | 第31-38页 |
·石墨烯的应用 | 第38-41页 |
·本文的研究内容 | 第41-44页 |
参考文献 | 第44-52页 |
第二章 通过气相动力学控制CVD生长石墨烯的厚度 | 第52-72页 |
·引言 | 第52-53页 |
·样品的制备 | 第53-56页 |
·石墨烯样品的表征 | 第56页 |
·理论计算模型 | 第56-57页 |
·结果与分析 | 第57-65页 |
·本章小结 | 第65-68页 |
参考文献 | 第68-72页 |
第三章 固态源低温CVD生长石墨烯 | 第72-82页 |
·引言 | 第72页 |
·用固态源制备石墨烯的方法 | 第72-73页 |
·以PMMA作为碳源 | 第73-77页 |
·以聚苯乙烯作为碳源 | 第77-78页 |
·气态甲烷在不同温度下制备石墨烯 | 第78页 |
·本章小结 | 第78-80页 |
参考文献 | 第80-82页 |
第四章 液态源300度低温下CVD生长高质量石墨烯 | 第82-92页 |
·引言 | 第82-83页 |
·液态苯作为碳源在低温下生长石墨烯 | 第83-88页 |
·理论计算 | 第88-89页 |
·本章小结 | 第89-90页 |
参考文献 | 第90-92页 |
第五章 三维杂化金属纳米结构阵列对称性依赖的等离子体共振性质 | 第92-114页 |
·引言 | 第92-94页 |
·不同AU纳米结构阵列的制备 | 第94-102页 |
·有限差分时域法模拟(FINTE DIFFERENCE TIME DOMAIN,FDTD) | 第102-103页 |
·纳米结构阵列的光学性质 | 第103-108页 |
·本章小结 | 第108-110页 |
参考文献 | 第110-114页 |
第六章 总结 | 第114-116页 |
附注 | 第116-118页 |
致谢 | 第118-120页 |
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第120页 |