目录 | 第1-8页 |
CONTENTS | 第8-11页 |
摘要 | 第11-12页 |
ABSTRACT | 第12-14页 |
第一章 绪论 | 第14-30页 |
·引言 | 第14页 |
·多孔陶瓷的制备和结构表征 | 第14-19页 |
·多孔陶瓷的制备 | 第15-16页 |
·多孔陶瓷孔结构的表征 | 第16-19页 |
·氮化硅晶体结构和应用 | 第19-22页 |
·氮化硅的晶体结构 | 第19-22页 |
·氮化硅的应用 | 第22页 |
·多孔氮化硅的制备和性能研究 | 第22-28页 |
·多孔氮化硅的制备 | 第22-24页 |
·多孔氮化硅性能研究 | 第24-28页 |
·本课题的研究目的和意义 | 第28页 |
·本课题拟解决的问题 | 第28-30页 |
第二章 实验原料及性能测试方法 | 第30-40页 |
·实验原料 | 第30页 |
·实验所需仪器设备 | 第30-31页 |
·试样制备 | 第31-33页 |
·复合陶瓷粉体的制备 | 第31页 |
·干压成型 | 第31-32页 |
·烧结 | 第32-33页 |
·性能测试 | 第33-36页 |
·密度及气孔率的测定 | 第33-34页 |
·弯曲强度的测定 | 第34-35页 |
·弹性模量的测定 | 第35-36页 |
·断裂韧性的测定 | 第36页 |
·显微结构分析 | 第36-37页 |
·X射线衍射分析 | 第36-37页 |
·场发射扫描电子显微镜分析 | 第37页 |
·气孔孔径分布及孔隙度分析 | 第37页 |
·介电性能分析 | 第37页 |
·热学性能测试 | 第37-40页 |
·高温强度测试 | 第37-38页 |
·抗热震性 | 第38-40页 |
第三章 多孔Si_3N_4复合陶瓷的制备及性能研究 | 第40-46页 |
·烧结温度的选择 | 第40-43页 |
·试样制备及烧结 | 第40-41页 |
·烧结温度对材料微观结构的影响 | 第41-43页 |
·烧结温度对材料强度和气孔率的影响 | 第43页 |
·造孔剂的选择 | 第43-45页 |
·试样制备及烧结 | 第44页 |
·造孔剂含量对材料气孔率的影响 | 第44-45页 |
·本章小结 | 第45-46页 |
第四章 多孔BN/SiO_2-Si_3N_4透波材料的制备及性能研究 | 第46-66页 |
·BN-Si_3N_4复相陶瓷 | 第46-52页 |
·BN-Si_3N_4复相陶瓷的制备及烧结 | 第46-47页 |
·结果与讨论 | 第47-52页 |
·SiO_2-Si_3N_4复合陶瓷 | 第52-56页 |
·SiO_2-Si_3N_4复合陶瓷的制备及烧结 | 第53页 |
·结果与讨论 | 第53-56页 |
·多孔BN-SiO_2-Si_3N_4透波材料的制备及性能研究 | 第56-63页 |
·多孔BN-SiO_2-Si_3N_4复合陶瓷的制备及烧结 | 第56-57页 |
·结果与讨论 | 第57-63页 |
·本章小结 | 第63-66页 |
第五章 BN/SiO_2/Si_3N_4介电性能研究 | 第66-74页 |
·介电常数随温度的变化 | 第67-68页 |
·介电常数随硬脂酸含量的变化 | 第68-69页 |
·BN/SiO_2-Si_3N_4的介电性能 | 第69-72页 |
·BN-Si_3N_4的介电性能 | 第69-70页 |
·SiO_2-Si_3N_4的介电性能 | 第70-71页 |
·BN-SiO_2-S_3N_4的介电性能 | 第71-72页 |
·结论 | 第72-74页 |
第六章 结论 | 第74-76页 |
参考文献 | 第76-82页 |
致谢 | 第82-84页 |
附录Ⅰ:攻读硕士期间取得的成果 | 第84-85页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第85页 |