激光烧蚀沉积硅基纳米材料及其特性研究
| 第一章 绪论 | 第1-10页 |
| 第二章 实验 | 第10-17页 |
| 2．1 实验原理 | 第10-13页 |
| 2．1．1 PLD基本原理 | 第10-11页 |
| 2．1．2 挡板技术原理 | 第11-12页 |
| 2．1．3 背散射技术原理 | 第12页 |
| 2．1．4 激光退火原理 | 第12-13页 |
| 2．2 实验装置及工艺参数 | 第13-14页 |
| 2．2．1 薄膜制备部分 | 第13页 |
| 2．2．2 激光退火部分 | 第13-14页 |
| 2．3 实验检测技术 | 第14-17页 |
| 2．3．1 扫描电镜及光电子能谱 | 第14-15页 |
| 2．3．2 X射线衍射技术 | 第15页 |
| 2．3．3 透射电镜技术 | 第15-16页 |
| 2．3．4 Raman散射谱技术 | 第16页 |
| 2．3．5 光致发光技术 | 第16-17页 |
| 第三章 实验结果及分析 | 第17-38页 |
| 3．1 典型实验条件下常规PLD沉积硅纳米薄膜 | 第17-21页 |
| 3．2 实验参数对材料特性的影响 | 第21-30页 |
| 3．2．1 环境气压对材料结构与特性的影响 | 第21-25页 |
| 3．2．2 激光能量对材料特性的影响 | 第25-30页 |
| 3．3 激光退火部分结果分析 | 第30-34页 |
| 3．4 激光烧蚀沉积纳米材料生长机理初探 | 第34-36页 |
| 3．5 激光烧蚀沉积纳米材料发光机理初 | 第36-38页 |
| 第四章 硅器件初探 | 第38-41页 |
| 第五章 结束语 | 第41-43页 |
| 参考文献 | 第43-45页 |
