| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-20页 |
| ·铁电体材料概述 | 第8-9页 |
| ·钙钛矿结构铁电材料简介 | 第9-10页 |
| ·多铁性材料概述 | 第10-13页 |
| ·铁电性 | 第11页 |
| ·铁磁性 | 第11-12页 |
| ·铁弹性 | 第12-13页 |
| ·多铁性薄膜材料铁酸铋简介 | 第13-14页 |
| ·阻变存储器简介及其研究现状 | 第14-18页 |
| ·阻变存储器的材料体系 | 第15-16页 |
| ·阻变存储器的阻变机制 | 第16-18页 |
| ·阻变存储器的研究现状 | 第18页 |
| ·本论文研究的背景意义 | 第18-20页 |
| 第二章 铁电薄膜的制备工艺及分析方法 | 第20-35页 |
| ·铁电薄膜的制备工艺 | 第20-23页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第20-22页 |
| ·溅射法 | 第22页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)法 | 第22-23页 |
| ·化学气相沉积(CVD)法 | 第23页 |
| ·激光分子束外延法 | 第23页 |
| ·铁电薄膜的分析方法 | 第23-35页 |
| ·相结构XRD分析 | 第23-24页 |
| ·扫描电镜分析 | 第24-26页 |
| ·原子力显微镜分析 | 第26-32页 |
| ·电学测量分析 | 第32-35页 |
| 第三章 铁酸铋薄膜的阻变特性及微区测试与分析 | 第35-52页 |
| ·引言 | 第35页 |
| ·铁酸铋薄膜的制备工艺与分析 | 第35-40页 |
| ·铁酸铋薄膜的制备 | 第35-37页 |
| ·铁酸铋薄膜的XRD测试分析 | 第37-38页 |
| ·铁酸铋薄膜的表面形貌测试 | 第38-40页 |
| ·铁酸铋薄膜的压电性能测试 | 第40-44页 |
| ·铁酸铋薄膜的电阻转变性能测试 | 第44-50页 |
| ·Ⅰ-Ⅴ特性曲线测试 | 第45-49页 |
| ·电流分布图像 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-52页 |
| 第四章 Pt/SrBi_2Ta_2O_9/Pt薄膜电容周边电畴的极化反转与疲劳特性研究 | 第52-59页 |
| ·引言 | 第52-53页 |
| ·Pt/SrBi_2Ta_2O_9/Pt薄膜电容的制备 | 第53页 |
| ·SrBi_2Ta_2O_9前体溶液的配置 | 第53页 |
| ·SrBi_2Ta_2O_9薄膜的制备方法 | 第53页 |
| ·电极的制备方法 | 第53页 |
| ·Pt/SrBi_2Ta_2O_9/Pt薄膜电容相邻单元最小安全距离的测量和计算 | 第53-56页 |
| ·Pt/SrBi_2Ta_2O_9/Pt薄膜电容极化疲劳特性的测量与分析 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 全文总结 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 攻读硕士期间发表的论文情况 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
